[發(fā)明專利]一種彩膜基板、液晶面板及液晶顯示器有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210477679.4 | 申請(qǐng)日: | 2012-11-21 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102981317A | 公開(公告)日: | 2013-03-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 趙文卿;陳俊生;楊盛際;劉英明;丁小梁;劉紅娟;任濤 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1339 | 分類號(hào): | G02F1/1339;G02F1/1335 |
| 代理公司: | 北京同達(dá)信恒知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11291 | 代理人: | 黃志華 |
| 地址: | 100176 北京市*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 彩膜基板 液晶面板 液晶顯示器 | ||
1.一種彩膜基板,包括玻璃基板、主支撐物和輔支撐物,其特征在于,每個(gè)所述主支撐物包括第一底部和第一頂部,其中:
所述第一底部設(shè)置在所述玻璃基板上,所述第一底部采用的材料的彈性回復(fù)率大于等于第一設(shè)定值,所述第一底部采用的材料的可承受壓強(qiáng)小于第二設(shè)定值;
所述第一頂部設(shè)置在所述第一底部上,所述第一頂部采用的材料的彈性回復(fù)率小于等于第三設(shè)定值,所述第一頂部采用的材料的可承受壓強(qiáng)大于等于所述第二設(shè)定值。
2.如權(quán)利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述第一頂部采用的材料密度均勻,所述第一底部采用的材料密度均勻,所述第一頂部采用的材料和第一底部采用的材料不同;或者
所述第一頂部采用的材料密度不均勻,所述第一底部采用的材料密度不均勻,所述第一頂部采用的材料和第一底部采用的材料相同。
3.如權(quán)利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述第一頂部和/或第一底部為圓柱體。
4.如權(quán)利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,每個(gè)所述輔支撐物包括第二底部和第二頂部,其中:
所述第二底部設(shè)置在所述玻璃基板上,所述第二底部采用的材料的彈性回復(fù)率大于等于所述第一設(shè)定值,所述第二底部采用的材料的可承受壓強(qiáng)小于所述第二設(shè)定值;
所述第二頂部設(shè)置在所述第二底部上,所述第二頂部采用的材料的彈性回復(fù)率小于等于所述第三設(shè)定值,所述第二頂部采用的材料的可承受壓強(qiáng)大于等于所述第二設(shè)定值。
5.如權(quán)利要求4所述的彩膜基板,其特征在于,所述第二頂部采用的材料密度均勻,所述第二底部采用的材料密度均勻,所述第二頂部采用的材料和第二底部采用的材料不同;或者
所述第二頂部采用的材料密度不均勻,所述第二底部采用的材料密度不均勻,所述第二頂部采用的材料和第二底部采用的材料相同。
6.如權(quán)利要求4所述的彩膜基板,其特征在于,所述第二頂部和/或第二底部為圓柱體。
7.如權(quán)利要求1-6任一所述的彩膜基板,其特征在于,所述第一設(shè)定值為70%。
8.如權(quán)利要求1-6任一所述的彩膜基板,其特征在于,所述第二設(shè)定值為185N/mm2。
9.如權(quán)利要求8所述的彩膜基板,其特征在于,所述第一頂部采用的材料和/或所述第二頂部采用的材料的可承受壓強(qiáng)為185-562N/mm2。
10.如權(quán)利要求1-6任一所述的彩膜基板,其特征在于,所述第三設(shè)定值為5%。
11.一種液晶面板,其特征在于,包括薄膜晶體管TFT陣列基板和如權(quán)利要求1-10任一所述的彩膜基板。
12.一種液晶顯示器,其特征在于,包括如權(quán)利要求11所述的液晶面板。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





