[發(fā)明專利]一種溴化鑭晶體內(nèi)嵌穩(wěn)峰源的方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210477221.9 | 申請日: | 2012-11-22 |
| 公開(公告)號: | CN103018766A | 公開(公告)日: | 2013-04-03 |
| 發(fā)明(設計)人: | 羅鵬;代傳波;程翀;藺常勇;劉單;吳榮俊;郭曉彬;郭智榮;左亮周;許滸 | 申請(專利權)人: | 中國船舶重工集團公司第七一九研究所 |
| 主分類號: | G01T1/40 | 分類號: | G01T1/40 |
| 代理公司: | 武漢天力專利事務所 42208 | 代理人: | 吳曉穎;馮衛(wèi)平 |
| 地址: | 430064 湖*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 溴化鑭 晶體 內(nèi)嵌穩(wěn)峰源 方法 | ||
1.一種溴化鑭晶體內(nèi)嵌穩(wěn)峰源的方法,其特征在于該方法包括以下步驟:
(1)使用靜電沉積法將無載液態(tài)镅241源電鍍在一個不銹鋼基底上制作成電鍍源片;
(2)使用PCB板制作成出射α粒子準直器,準直器孔徑為φ0.4~0.8mm,準直孔個數(shù)≥80個;準直器表面鍍金作為光子反射層;
(3)使用聚四氟乙烯加工成具有凹槽的安裝基座,將電鍍源片和準直器依次放入安裝基座凹槽中,邊緣使用緊固膠進行緊固,即可獲得制作好的內(nèi)嵌穩(wěn)峰源;
(4)將制作好的內(nèi)嵌穩(wěn)峰源緊貼經(jīng)打磨處理過的溴化鑭晶體,使用特氟龍反光帶將內(nèi)嵌穩(wěn)峰源和晶體進行緊密包裹,再使用加工好的聚四氟環(huán)形壓塊將特氟龍反光帶與內(nèi)嵌穩(wěn)峰源壓緊;
(5)將經(jīng)步驟(4)處理后的溴化鑭晶體放入金屬密封筒中,將粘貼好導光玻璃的密封蓋與金屬密封筒旋緊,并涂上密封膠進行密封,固化24小時后即可使用。
2.根據(jù)權利要求1所述的溴化鑭晶體內(nèi)嵌穩(wěn)峰源的方法,其特征在于:步驟(1)中所述電鍍在不銹鋼基底上的镅源活性區(qū)厚度為1μm,镅源活度為2kBq,表面發(fā)射率為800cps。
3.根據(jù)權利要求1所述的溴化鑭晶體內(nèi)嵌穩(wěn)峰源的方法,其特征在于:步驟(2)中所述準直器孔徑為φ0.6mm,準直孔個數(shù)為100個。
4.根據(jù)權利要求1所述的溴化鑭晶體內(nèi)嵌穩(wěn)峰源的方法,其特征在于:步驟(4)中所述聚四氟環(huán)形壓塊為環(huán)形結構,可用于緊套在包裹了特氟龍反光帶的內(nèi)嵌穩(wěn)峰源外圍。
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