[發(fā)明專利]利用等離子體噴涂工藝來(lái)修復(fù)氣缸運(yùn)行表面的工藝

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210477162.5
• 申請(qǐng)日: 2012-11-21
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103132009A
• 公開(kāi)（公告）日: 2013-06-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 馬克·羅伯特·西歐克;L·施拉姆;沃爾夫?qū)てび忍仄?/a>;克萊門(mén)斯·瑪麗亞·韋普特
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 福特全球技術(shù)公司
• 主分類號(hào): C23C4/18
• 分類號(hào): C23C4/18;C23C4/02
• 代理公司: 北京銘碩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11286
• 代理人: 郭鴻禧

1.一種修復(fù)缸套的損壞區(qū)域的方法，該方法包括下述步驟：

對(duì)損壞區(qū)域進(jìn)行機(jī)械加工，以產(chǎn)生厚度減小的區(qū)域；

使厚度減小的區(qū)域的表面粗糙化；

將涂層涂覆至厚度減小的區(qū)域以及與厚度減小的區(qū)域相鄰的未粗糙化區(qū)域；以及

對(duì)涂層進(jìn)行精加工，以產(chǎn)生期望的內(nèi)徑，未粗糙化的表面的涂層基本被完全去除。

2.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，涂覆涂層的步驟包括等離子體噴涂工藝。

3.如權(quán)利要求2所述的方法，其中，等離子體噴涂工藝包括等離子體傳輸電弧絲涂覆工藝。

4.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，機(jī)械加工的步驟在厚度減小的區(qū)域和未機(jī)械加工區(qū)域之間產(chǎn)生過(guò)渡部。

5.如權(quán)利要求4所述的方法，其中，過(guò)渡部是傾斜平面。

6.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，粗糙化的步驟包括錘刷工藝。

7.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，精加工步驟包括珩磨。

8.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，涂層被涂覆為延伸至與缸套緊鄰的發(fā)動(dòng)機(jī)缸體的唇部上。

9.一種修復(fù)容納在發(fā)動(dòng)機(jī)缸體中的缸套的損壞區(qū)域的方法，該方法包括下述步驟：

對(duì)損壞區(qū)域進(jìn)行機(jī)械加工，以產(chǎn)生厚度減小的區(qū)域，厚度減小的區(qū)域在未達(dá)到缸套的軸向端部處停止并使缸套的鄰近該軸向端部的部分成為未機(jī)械加工區(qū)域；

使厚度減小的區(qū)域的表面粗糙化；

將涂層涂覆到厚度減小的區(qū)域，涂層延伸至缸套的與厚度減小的區(qū)域相鄰的未機(jī)械加工區(qū)域上；以及

對(duì)涂層進(jìn)行精加工，以產(chǎn)生與在涂覆涂層之前的未機(jī)械加工區(qū)域的直徑相等的期望的內(nèi)徑。

10.一種修復(fù)容納在發(fā)動(dòng)機(jī)缸體中的缸套的內(nèi)表面的方法，該方法包括下述步驟：

從內(nèi)表面去除材料，以產(chǎn)生厚度減小的區(qū)域，厚度減小的區(qū)域相對(duì)于氣缸軸向地延伸，并且在未達(dá)到缸套的端部處停止，從而在厚度減小的區(qū)域和缸體的端部之間留有初始直徑區(qū)域；

使厚度減小的區(qū)域的表面粗糙化；

將涂層涂覆到初始直徑區(qū)域的至少一部分和厚度減小的區(qū)域；以及

對(duì)涂層進(jìn)行精加工，以產(chǎn)生與涂覆涂層之前的初始直徑區(qū)域的初始內(nèi)徑相等的均勻的內(nèi)徑。