[發明專利]一種石墨舟預處理替代片及石墨舟預處理方法

無效

• 申請號: 201210475475.7
• 申請日: 2012-11-19
• 公開（公告）號: CN103824795A
• 公開（公告）日: 2014-05-28
• 發明（設計）人: 王在發;陳磊;何悅;何雙權
• 申請（專利權）人: 尚德太陽能電力有限公司;無錫尚德太陽能電力有限公司
• 主分類號: H01L21/673
• 分類號: H01L21/673;C23C16/458;C23C16/34
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1.一種石墨舟預處理替代片，用于石墨舟清洗后的預處理，所述石墨舟包括多個層疊設置的舟片，所述每一舟片上包括多個用于承載工件片的工藝卡點，其特征在于，所述石墨舟預處理替代片的形狀與所述工藝卡點相匹配，其邊緣區域厚度范圍為100～300μm，其中心區域厚度范圍為1～3mm。

2.根據權利要求1所述的石墨舟預處理替代片，其特征在于，所述石墨舟預處理替代片為邊長為125mm或156mm的正方形，所述正方形的邊緣區域為楔形，所述楔形的末端厚度為100～300μm。

3.根據權利要求2所述的石墨舟預處理替代片，其特征在于，所述每一替代片對應三個工藝卡點，所述工藝卡點分別支撐在每一替代片的三個側面，所述每一代替片通過對應的工藝卡點傾斜5至10度設置在舟片上。

4.根據權利要求1所述的石墨舟預處理替代片，其特征在于，所述石墨舟預處理替代片的材質為石墨或碳纖維。

5.一種石墨舟預處理方法，其特征在于，該方法包括以下步驟：a、提供一進行預處理的石墨舟，所述石墨舟上具有多個工藝卡點；b、提供與石墨舟數量相匹配的如權利要求1至3項任一項所述的石墨舟預處理替代片；c、將所述石墨舟預處理替代片設置在所述石墨舟的工藝卡點上；d、將所述石墨舟設置到化學氣相沉積設備中沉積氮化硅。

6.根據權利要求5所述的石墨舟預處理方法，其特征在于，在步驟c中，所述化學氣相沉積設備為等離子增強化學氣相沉積設備。

7.根據權利要求5所述的石墨舟預處理方法，其特征在于，該方法還包括步驟e、通過氫氟酸溶液對所述石墨舟預處理替代片進行清洗。

8.根據權利要求7所述的石墨舟預處理方法，其特征在于，步驟e是在進行4至6次步驟d中氮化硅沉積后再進行。