[發明專利]改變光束偏振方向二維分布的裝置

無效

• 申請號: 201210473826.0
• 申請日: 2012-11-21
• 公開（公告）號: CN102928990A
• 公開（公告）日: 2013-02-13
• 發明（設計）人: 張運波;曾愛軍;陳立群;王瑩;黃惠杰
• 申請（專利權）人: 中國科學院上海光學精密機械研究所
• 主分類號: G02B27/28
• 分類號: G02B27/28;G02F1/01
• 代理公司: 上海新天專利代理有限公司 31213
• 代理人: 張澤純

1.一種改變光束偏振方向二維分布的裝置，其特征在于其構成包括沿入射光束方向依次是起偏器（1）、四分之一波片（3）和反射式空間光調制器（4），該反射式空間光調制器（4）的控制端與控制器（5）的輸出端相連，入射光束（11）通過所述的起偏器（1）起偏后形成線偏振光（12），該線偏振光（12）的偏振方向與Y軸平行，垂直地入射到所述的四分之一波片（3）上，該四分之一波片（3）的O光的光軸與Y軸的夾角設為45°或-45°。

2.根據權利要求1所述的改變光束偏振方向二維分布的裝置，其特征在于，在所述的起偏器（1）和四分之一波片（3）之間設有消偏振分光棱鏡（2）。

3.根據權利要求1或2所述的改變光束偏振方向二維分布的裝置，其特征在于，所述的起偏器（1）是偏振片、尼科耳棱鏡、格蘭棱鏡或沃拉斯頓棱鏡。

4.根據權利要求1至3任一項所述的改變光束偏振方向二維分布的裝置，其特征在于，所述的反射式空間光調制器（4）為液晶的反射式空間光調制器、光彈效應反射式純相位型空間光調制器或磁光效應反射式純相位型空間光調制器。