[發明專利]一種用于上沖式澆注系統中均勻內澆道流場的工藝結構有效
| 申請號： | 201210473600.0 | 申請日： | 2012-11-20 |
| 公開（公告）號： | CN102962403A | 公開（公告）日： | 2013-03-13 |
| 發明（設計）人： | 王斌;胡僑丹;徐長征;張洪奎;李建國 | 申請（專利權）人： | 上海交通大學 |
| 主分類號： | B22C9/08 | 分類號： | B22C9/08 |
| 代理公司： | 上海新天專利代理有限公司 31213 | 代理人： | 祖志翔 |
| 地址： | 200240 *** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 用于 上沖 澆注 系統 均勻 內澆道流場 工藝 結構 | ||
1.一種用于上沖式澆注系統中均勻內澆道流場的工藝結構，包括直澆道、橫澆道、內澆道、鑄型和冒口，其特征在于：所述工藝結構還包括有設置并連接于橫澆道與內澆道之間的均流緩沖區，該均流緩沖區的直徑D3大于所述橫澆道的直徑D1，并且大于等于所述內澆道的直徑D2。
2.根據權利要求1所述的用于上沖式澆注系統中均勻內澆道流場的工藝結構，其特征在于：所述均流緩沖區的直徑D3等于2M，M為橫澆道的直徑D1和內澆道的直徑D2中的最大值。
3.根據權利要求1所述的用于上沖式澆注系統中均勻內澆道流場的工藝結構，其特征在于：所述均流緩沖區的長度L大于內澆道的直徑D2。
4.根據權利要求3所述的用于上沖式澆注系統中均勻內澆道流場的工藝結構，其特征在于：所述均流緩沖區的長度L等于內澆道的直徑D2的2倍。
5.根據權利要求1所述的用于上沖式澆注系統中均勻內澆道流場的工藝結構，其特征在于：所述內澆道的軸心位置滿足下列條件：
0.5D2＜l＜L﹣0.5D2，
其中，l為內澆道的軸心與均流緩沖區和橫澆道的連接端的距離，
D2為內澆道的直徑，
L為均流緩沖區的長度。
6.根據權利要求1所述的用于上沖式澆注系統中均勻內澆道流場的工藝結構，其特征在于：所述內澆道的軸心位置位于均流緩沖區的長度L上靠近橫澆道一側的黃金分割點。
7.根據權利要求1所述的用于上沖式澆注系統中均勻內澆道流場的工藝結構，其特征在于：所述均流緩沖區與橫澆道同軸。
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