[發(fā)明專利]液晶顯示裝置及其制造方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210470782.6
• 申請(qǐng)日: 2012-11-20
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103135285A
• 公開(kāi)（公告）日: 2013-06-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 松井慶枝;國(guó)松登;園田英博
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社日本顯示器東
• 主分類(lèi)號(hào): G02F1/1337
• 分類(lèi)號(hào): G02F1/1337;G02F1/1333
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105
• 代理人: 張勁松

1.一種液晶顯示裝置，具備：TFT基板，其在由沿第一方向延伸并沿第二方向排列的掃描線和沿第二方向延伸并沿第一方向排列的圖像信號(hào)線包圍的區(qū)域形成有像素電極；液晶顯示面板，其在具有與所述像素對(duì)應(yīng)的濾色器的對(duì)向基板之間夾持有液晶，在所述液晶顯示面板的背面配置有背光燈，其特征在于，

覆蓋所述掃描線、所述圖像信號(hào)線、所述像素電極而形成取向膜，

所述取向膜接受光取向處理，

所述取向膜具有光導(dǎo)電特性，

在覆蓋所述掃描線的所述取向膜的下部配置有光致抗蝕劑。

2.如權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置，其特征在于，

所述光致抗蝕劑的厚度為所述取向膜的厚度的10倍以上。

3.如權(quán)利要求2所述的液晶顯示裝置，其特征在于，

所述光致抗蝕劑的厚度為所述取向膜的厚度的20倍以上。

4.一種液晶顯示裝置，具備：TFT基板，其在由沿第一方向延伸并沿第二方向排列的掃描線和沿第二方向延伸并沿第一方向排列的圖像信號(hào)線包圍的區(qū)域形成有像素電極；液晶顯示面板，其在具有與所述像素對(duì)應(yīng)的濾色器的對(duì)向基板之間夾持有液晶，在所述液晶顯示面板的背面配置有背光燈，其特征在于，

覆蓋所述掃描線、所述圖像信號(hào)線、所述像素電極而形成取向膜，

所述取向膜接受光取向處理，

所述取向膜具有光導(dǎo)電特性，

在所述背光燈熄滅的狀態(tài)下的覆蓋所述掃描線的所述取向膜的比電阻小于覆蓋所述像素電極的所述取向膜的比電阻。

5.如權(quán)利要求4所述的液晶顯示裝置，其特征在于，

覆蓋所述掃描線的所述取向膜的亞胺環(huán)的密度小于覆蓋所述像素電極的所述取向膜的亞胺環(huán)的密度。

6.一種液晶顯示裝置的制造方法，該液晶顯示裝置具備：具備：TFT基板，其在由沿第一方向延伸并沿第二方向排列的掃描線和沿第二方向延伸并沿第一方向排列的圖像信號(hào)線包圍的區(qū)域形成有像素電極；液晶顯示面板，其在具有與所述像素對(duì)應(yīng)的濾色器的對(duì)向基板之間夾持有液晶，在所述液晶顯示面板的背面配置有背光燈，其特征在于，該制造方法包括：

覆蓋所述掃描線、所述圖像信號(hào)線、所述像素電極而涂布取向膜的工序；

對(duì)所述取向膜進(jìn)行干燥的工序；

燒結(jié)所述取向膜進(jìn)行亞胺化的工序；

對(duì)所述取向膜照射偏振光紫外線進(jìn)行光取向的工序；

在照射所述偏振光紫外線之后進(jìn)行加熱的工序；

對(duì)所述取向膜進(jìn)行加熱的同時(shí)，僅對(duì)覆蓋所述掃描線的所述取向膜照射紫外線的工序。

7.如權(quán)利要求6所述的液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于，

對(duì)所述取向膜進(jìn)行加熱的同時(shí)，僅對(duì)覆蓋所述掃描線的所述取向膜照射紫外線的工序中的紫外線為偏振光紫外線。

8.如權(quán)利要求7所述的液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于，

對(duì)所述取向膜進(jìn)行加熱的同時(shí)，僅對(duì)覆蓋所述掃描線的所述取向膜照射紫外線的工序中的加熱溫度為200℃～210℃。