[發(fā)明專利]一種有機電致發(fā)光器件及其制備方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210466673.7 | 申請日: | 2012-11-19 |
| 公開(公告)號: | CN103824952A | 公開(公告)日: | 2014-05-28 |
| 發(fā)明(設計)人: | 周明杰;王平;黃輝;鐘鐵濤 | 申請(專利權)人: | 海洋王照明科技股份有限公司;深圳市海洋王照明技術有限公司;深圳市海洋王照明工程有限公司 |
| 主分類號: | H01L51/50 | 分類號: | H01L51/50;H01L51/54;H01L51/52;H01L51/56 |
| 代理公司: | 廣州三環(huán)專利代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝傳鑫;熊永強 |
| 地址: | 518000 廣東省深*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 有機 電致發(fā)光 器件 及其 制備 方法 | ||
技術領域
本發(fā)明涉及有機電致發(fā)光領域,特別涉及一種有機電致發(fā)光器件及其制備方法。
背景技術
有機電致發(fā)光器件(Organic?light-emitting?Devices,簡稱OLEDs)是一種使用有機發(fā)光材料的多層發(fā)光器件,包括依次層疊的陽極層、空穴注入層、空穴傳輸層、發(fā)光層、電子傳輸層和陰極。OLED的發(fā)光原理是基于在外加電場的作用下,電子從陰極注入到有機物的最低未占有分子軌道(LUMO),而空穴從陽極注入到有機物的最高占有軌道(HOMO),電子和空穴在發(fā)光層相遇、復合、形成激子,激子在電場作用下遷移,將能量傳遞給發(fā)光材料,激發(fā)電子從基態(tài)躍遷到激發(fā)態(tài),激發(fā)態(tài)能量通過輻射失活,產(chǎn)生光子,釋放光能。OLED因其具有發(fā)光效率高、驅動電壓低、視角寬、發(fā)光顏色選擇范圍寬、制作工藝簡單,以及易實現(xiàn)全色和柔性顯示等特點,在照明和平板顯示領域引起了越來越多的關注。
在傳統(tǒng)的發(fā)光器件中,器件內(nèi)部發(fā)光材料發(fā)出的光大約只有18%是可以發(fā)射到外部去的,大部分發(fā)出的光會以其他形式消耗在器件外部。研究發(fā)現(xiàn),OLED光損耗大,有很大一部分原因在于空穴注入層的不完善。由于現(xiàn)有空穴注入層的材質通常為金屬氧化物,它在可見光范圍內(nèi)的吸光率較高,造成了光損失;另外,金屬氧化物為無機物,與空穴傳輸層的有機材料性質差別較大,兩者界面之間存在折射率差,容易引起全反射,導致OLED整體出光性能較低。因此非常有必要對空穴注入層的材質進行改性。
發(fā)明內(nèi)容
為解決上述技術問題,本發(fā)明提供了一種有機電致發(fā)光器件,該有機電致發(fā)光器件以銳鈦礦晶型的二氧化鈦、酞菁類化合物與結晶性空穴傳輸材料作為空穴注入層的材質,充分利用三者的散射作用,提高OLED的發(fā)光效率。本發(fā)明還提供了該有機電致發(fā)光器件的制備方法。
第一方面,本發(fā)明提供了一種有機電致發(fā)光器件,包括依次層疊的導電陽極、空穴注入層、發(fā)光層、電子傳輸層、電子注入層和陰極,所述空穴注入層的材質包括銳鈦型二氧化鈦、酞菁類化合物和結晶性空穴傳輸材料。
其中,所述銳鈦型二氧化鈦為經(jīng)過四氯化鈦(TiCl4)的處理的二氧化鈦(TiO2)。經(jīng)過TiCl4處理的銳鈦型二氧化鈦,顆粒構型規(guī)整均一,比表面積較大,粒徑也較大,對光有明顯的散射作用,并可使二氧化鈦結合緊密,提高空穴注入層的導電性,間接提高了OLED的發(fā)光效率。
優(yōu)選地,所述酞菁類化合物為易結晶的酞菁類小分子,所述易結晶的酞菁類小分子為酞菁銅(CuPc)、酞菁鋅(ZnPc)、酞菁鎂(MgPc)和酞菁釩(V2Pc5)中的一種。
其中,所述結晶性空穴傳輸材料為玻璃化轉變溫度為70~100℃的空穴傳輸材料。優(yōu)選地,所述結晶性空穴傳輸材料為1,1-二[4-[N,N′-二(p-甲苯基)氨基]苯基]環(huán)己烷(TAPC)、N,N'-雙(3-甲基苯基)-N,N'-二苯基-[1,1'-聯(lián)苯]-4,4'-二胺(TPD)和N,N’-(1-萘基)-N,N’-二苯基-4,4’-聯(lián)苯二胺(NPB)中的一種。
優(yōu)選地,所述空穴注入層中,銳鈦型二氧化鈦、酞菁類化合物和結晶性空穴傳輸材料的質量比為:0.12~4:0.3~5:1。
優(yōu)選地,所述空穴注入層的厚度為30~100nm。
優(yōu)選地,所述導電陽極為銦錫氧化物玻璃(ITO)、鋁鋅氧化物玻璃(AZO)或銦鋅氧化物玻璃(IZO)。更優(yōu)選地,所述導電陽極為ITO。
優(yōu)選地,所述發(fā)光層的材質為4-(二腈甲基)-2-丁基-6-(1,1,7,7-四甲基久洛呢啶-9-乙烯基)-4H-吡喃(DCJTB)、9,10-二-2-萘蒽(ADN)、4,4'-雙(9-乙基-3-咔唑乙烯基)-1,1'-聯(lián)苯(BCzVBi)或8-羥基喹啉鋁(Alq3)。更優(yōu)選地,所述發(fā)光層的材質為4,4'-雙(9-乙基-3-咔唑乙烯基)-1,1'-聯(lián)苯(BCzVBi)。
優(yōu)選地,所述發(fā)光層的厚度為5~40nm。更優(yōu)選地,所述發(fā)光層的厚度為30nm。
優(yōu)選地,所述電子傳輸層的材質為4,7-二苯基-1,10-菲羅啉(Bphen)、3-(聯(lián)苯-4-基)-5-(4-叔丁基苯基)-4-苯基-4H-1,2,4-三唑(TAZ)或1,3,5-三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯(TPBI)。更優(yōu)選地,所述電子傳輸層的材質為1,3,5-三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯(TPBI)。
優(yōu)選地,所述電子傳輸層的厚度為40~80nm。更優(yōu)選地,所述電子傳輸層的厚度為45nm。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
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