[發(fā)明專利]散熱裝置

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210465710.2
• 申請(qǐng)日: 2012-11-16
• 公開（公告）號(hào): CN103826412A
• 公開（公告）日: 2014-05-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 林志曄
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 奇鋐科技股份有限公司
• 主分類號(hào): H05K7/20
• 分類號(hào): H05K7/20;H01L23/427
• 代理公司: 北京匯智勝知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11346
• 代理人: 朱登河

1.一種散熱裝置，系包括：

一第一板體，具有一第一側(cè)面及一第二側(cè)面，該第二側(cè)面上形成有一粗糙結(jié)構(gòu)；及一第二板體，具有一第三側(cè)面及一第四側(cè)面，該第二板體之第四側(cè)面系蓋合相對(duì)該第

一板體之第二側(cè)面，并共同界定一腔室，該腔室內(nèi)填充有一工作流體。

2.如權(quán)利要求第1項(xiàng)所述之散熱裝置，其中該第三側(cè)面系對(duì)應(yīng)貼設(shè)有一熱源。

3.如權(quán)利要求第2項(xiàng)所述之散熱裝置，更具有一鍍膜層披覆于所述第二側(cè)面之粗糙結(jié)構(gòu)上或第四側(cè)面上其中任一側(cè)面上。

4.如權(quán)利要求第3項(xiàng)所述之散熱裝置，其中該鍍膜層同時(shí)披覆于所述第二側(cè)面之粗糙結(jié)構(gòu)上及第四側(cè)面上。

5.如權(quán)利要求第4項(xiàng)所述之散熱裝置，其中該粗糙結(jié)構(gòu)系為局部或全部其中任一方式形成。

6.如權(quán)利要求第5項(xiàng)所述之散熱裝置，其中該局部形成的粗糙結(jié)構(gòu)系位在該第二側(cè)面對(duì)應(yīng)該熱源之正上方處。

7.如權(quán)利要求第3項(xiàng)所述之散熱裝置，其中該鍍膜層系為一親水性薄膜及一疏水性薄膜其中任一。

8.如權(quán)利要求第1項(xiàng)所述之散熱裝置，其中該工作流體系可為純水及甲醇及丙酮及冷煤及氨其中任一。

9.如權(quán)利要求第6項(xiàng)所述之散熱裝置，其中該第二側(cè)面之粗糙結(jié)構(gòu)系為布微槽道之毛細(xì)結(jié)構(gòu)，其系為機(jī)械加工或蝕刻其中任一方式所形成。

10.如權(quán)利要求第9項(xiàng)所述之散熱裝置，其中該機(jī)械加工系可為壓印及刻印及雕刻其中任一。

11.如權(quán)利要求第1項(xiàng)所述之散熱裝置，其中該粗糙結(jié)構(gòu)系可呈凹凸?fàn)罴安ɡ藸罴颁忼X狀其中任一。

12.如權(quán)利要求第1項(xiàng)所述之散熱裝置，其中該第二板體具有一毛細(xì)結(jié)構(gòu)，該毛細(xì)結(jié)構(gòu)系形成在該第四側(cè)面上。

13.如權(quán)利要求第12項(xiàng)所述之散熱裝置，其中該毛細(xì)結(jié)構(gòu)系可為復(fù)數(shù)溝槽及燒結(jié)粉末體及網(wǎng)格體其中任一。

14.如權(quán)利要求第1項(xiàng)所述之散熱裝置，其中該腔室更具有至少一支撐柱，該支撐柱兩端分別連接所述第二側(cè)面及第四側(cè)面，并該支撐柱外部具有一毛細(xì)結(jié)構(gòu)體。

15.如權(quán)利要求第14項(xiàng)所述之散熱裝置，其中該毛細(xì)結(jié)構(gòu)體系可為復(fù)數(shù)溝槽及燒結(jié)粉末體及網(wǎng)格體其中任一。

16.如權(quán)利要求第3項(xiàng)所述之散熱裝置，其中該鍍膜層系由二氧化硅所組成。