[發(fā)明專利]一種靶材使用檢測系統(tǒng)和方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210465472.5 | 申請(qǐng)日: | 2012-11-16 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102994970A | 公開(公告)日: | 2013-03-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李勝斌;尹明格;付艷強(qiáng);劉勃;張立星;車奉周;劉占偉;金相起 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;北京京東方顯示技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/54 | 分類號(hào): | C23C14/54;C23C14/34 |
| 代理公司: | 北京同達(dá)信恒知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11291 | 代理人: | 李娟 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 使用 檢測 系統(tǒng) 方法 | ||
1.一種靶材使用檢測系統(tǒng),其特征在于,包括:
靶材,所述靶材的背板上設(shè)置有至少一個(gè)具有凹槽的凸臺(tái)和與所述凹槽連通的導(dǎo)氣通道,所述凸臺(tái)被所述靶材的靶胚和連接部密封;
與所述導(dǎo)氣通道連通的流量計(jì),用于監(jiān)測所述導(dǎo)氣通道和凹槽中的氣體是否流動(dòng);
以及與所述流量計(jì)信號(hào)連接的濺射設(shè)備的自鎖裝置,用于獲取所述流量計(jì)的狀態(tài),并當(dāng)所述流量計(jì)顯示流量時(shí)啟動(dòng),使濺射設(shè)備停止工作。
2.如權(quán)利要求1所述的靶材使用檢測系統(tǒng),其特征在于,所述凸臺(tái)為長方體塊,且所述長方體塊的長度方向與所述背板的長度方向垂直。
3.如權(quán)利要求2所述的靶材使用檢測系統(tǒng),其特征在于,所述凸臺(tái)相對(duì)于所述背板的高度為0.5~1mm。
4.如權(quán)利要求3所述的靶材使用檢測系統(tǒng),其特征在于,所述凸臺(tái)與所述背板為一體化結(jié)構(gòu)。
5.如權(quán)利要求1所述的靶材使用檢測系統(tǒng),其特征在于,所述背板內(nèi)部還設(shè)置有冷卻水管路。
6.如權(quán)利要求1所述的靶材使用檢測系統(tǒng),其特征在于,所述靶材的連接部的材質(zhì)為銦或銦錫合金。
7.一種靶材使用檢測方法,其特征在于,包括:
流量計(jì)監(jiān)測充入靶材的導(dǎo)氣通道和凸臺(tái)凹槽中的工藝氣體是否流動(dòng);
自鎖裝置獲取所述流量計(jì)的狀態(tài),并當(dāng)所述流量計(jì)顯示流量時(shí)啟動(dòng),使濺射設(shè)備停止工作。
8.如權(quán)利要求7所述的靶材使用檢測方法,其特征在于,當(dāng)所述靶材的靶胚被擊穿時(shí),填充在所述靶材的導(dǎo)氣通道和凸臺(tái)凹槽中的工藝氣體從所述凸臺(tái)凹槽口泄露,所述流量計(jì)顯示流量。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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