[發明專利]利用位置敏感型檢測器檢測背散射輻射的密度分布測量

無效

• 申請號: 201210465004.8
• 申請日: 2012-11-16
• 公開（公告）號: CN103115933A
• 公開（公告）日: 2013-05-22
• 發明（設計）人: 亞歷克斯·庫利克;亞歷山大·約瑟夫·葉辛;尼古拉·巴圖林;蘇沃·森;邁克爾·喬治·布羅索
• 申請（專利權）人: 思姆菲舍爾科技公司
• 主分類號: G01N23/203
• 分類號: G01N23/203;G01N9/24
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 劉曉峰

1.一種密度分布測量設備，包括：

至少一個位置敏感型伽馬射線檢測器，所述位置敏感型伽馬射線檢測器被構造成緊鄰過程容器定位，

其中，所述位置敏感型伽馬射線檢測器被構造成獲得背散射伽馬射線計數分布，并根據所述背散射伽馬射線計數分布確定所述過程容器中容納的流體的密度分布。

2.根據權利要求1所述的密度分布測量設備，還包括：

至少一個伽馬射線源，所述至少一個伽馬射線源被構造成將伽馬射線發射到所述流體中。

3.根據權利要求1所述的密度分布測量設備，其中，所述位置敏感型伽馬射線檢測器還包括電離檢測器。

4.根據權利要求3所述的密度分布測量設備，其中，所述電離檢測器填充有電絕緣材料。

5.根據權利要求3所述的密度分布測量設備，其中，所述電離檢測器被構造成作為位置敏感型比例計數器操作。

6.根據權利要求3所述的密度分布測量設備，其中，所述位置敏感型伽馬射線檢測器被構造成采用電荷分配讀數。

7.根據權利要求3所述的密度分布測量設備，其中，所述電離檢測器還包括：

電阻元件；

第一輸出接觸件，所述第一輸出接觸件連接到所述電阻元件的第一端；和

第二輸出接觸件，所述第二輸出接觸件連接到所述電阻元件的第二端，

其中，所述第一輸出接觸件和所述第二輸出接觸件被構造成分別輸出第一輸出信號和第二輸出信號。

8.根據權利要求7所述的密度分布設備，還包括：

檢測器電子模塊，所述檢測器電子模塊被構造成根據第一輸出信號和第二輸出信號的比較確定背散射伽馬射線的檢測位置，

其中，所述第一輸出信號從所述第一接觸件輸出，而所述第二輸出信號從所述第二接觸件輸出。

9.根據權利要求8所述的密度分布設備，其中，所述電子模塊還被構造成根據下述公式確定所述檢測位置：

x=LVR(R/ρ+1)-VLR/ρVL+VR.]]>

10.根據權利要求8所述的密度分布設備，其中，所述檢測器電子模塊還被構造成通過計算所述檢測位置處的背散射伽馬射線計數分布的斜率來測量所述容器中的一位置處的流體密度。

11.一種用于測量過程容器中的流體的密度分布的方法，所述方法包括以下步驟：

將伽馬射線發射到所述流體中；

使用緊鄰所述容器設置的至少一個位置敏感型伽馬射線檢測器獲得背散射伽馬射線計數分布；和

根據所述背散射伽馬射線計數分布確定所述過程容器中容納的流體的密度分布，

其中，所述位置敏感型伽馬射線檢測器包括電離檢測器，所述電離檢測器包括：

電阻元件；

連接到所述電阻元件的第一端的第一輸出接觸件；和

連接到所述電阻元件的第二端的第二輸出接觸件，

其中，所述輸出接觸件被構造成分別輸出第一輸出信號和第二輸出信號。

12.根據權利要求11所述的方法，其中，所述獲得背散射伽馬射線計數分布的步驟還包括：

根據第一輸出信號和第二輸出信號的比較確定背散射伽馬射線的檢測位置，

其中，所述第一輸出信號從所述第一輸出接觸件輸出，而所述第二輸出信號從所述第二輸出接觸件輸出。