[發明專利]高濃度硫化氫去除系統及方法

無效

• 申請號: 201210464815.6
• 申請日: 2012-11-16
• 公開（公告）號: CN103706229A
• 公開（公告）日: 2014-04-09
• 發明（設計）人: 曾慶平;林威志
• 申請（專利權）人: 財團法人交大思源基金會
• 主分類號: B01D53/52
• 分類號: B01D53/52;B01D53/78;C01B17/05
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 宋焰琴

1.一種高濃度硫化氫去除系統，包括：

一化學除硫模塊，具有一氣體通入口、一氣體排出口及一液體排出口，且一含硫化氫氣體由該氣體通入口通入至該化學除硫模塊中；

一化學儲存單元，包括一化學氧化劑，該化學氧化劑為三價鐵離子溶液、四價錳離子溶液、具氧化力的化學物質、或其組合；

一液體噴灑單元，其中該化學儲存單元中的該化學氧化劑通過該液體噴灑單元通入至該化學除硫模塊；

一生物再生單元，包括一再生化學氧化劑的生物體且與該化學儲存單元連接；以及

一硫沉淀排出模塊，與該化學除硫模塊的該液體排出口連接。

2.如權利要求1所述的高濃度硫化氫去除系統，其中該硫沉淀排出模塊設于該化學除硫模塊與該化學儲存單元間。

3.如權利要求1所述的高濃度硫化氫去除系統，其中該硫沉淀排出模塊包括一硫沉淀過濾單元及一硫沉淀排出單元。

4.如權利要求1所述的高濃度硫化氫去除系統，其中該硫沉淀排出模塊還包括一液體暫存槽，連結于該硫沉淀過濾單元及該生物再生單元間。

5.如權利要求1所述的高濃度硫化氫去除系統，其中該化學除硫模塊包括至少一除硫管柱。

6.如權利要求1所述的高濃度硫化氫去除系統，其中該化學除硫模塊包括多個除硫管柱，且所述除硫管柱以串聯或并聯連接。

7.如權利要求1所述的高濃度硫化氫去除系統，其中該生物體為：將該反應產物氧化再生成該化學氧化劑的微生物或酵素。

8.如權利要求1所述的高濃度硫化氫去除系統，其中該生物再生單元還包括：一液態培養基，使該生物體懸浮生長；或一固態擔體，使該生物體附著于該固態擔體上或包埋于固態擔體中。

9.如權利要求1所述的高濃度硫化氫去除系統，其中該含硫化氫氣體中的硫化氫濃度為1000ppm或以上。

10.一種高濃度硫化氫的去除方法，包括：

(A)通入一含硫化氫氣體至一化學除硫模塊，且通過一液體噴灑單元以將存放于一化學儲存單元中的一化學氧化劑通入至該化學除硫模塊，以使該含硫化氫氣體中的硫化氫與該化學氧化劑反應得到一反應產物及一除硫氣體，其中該除硫氣體從該化學除硫模塊排出，該反應產物排出至一硫沉淀排出模塊、或先排出至一化學儲存單元后再通入至該硫沉淀排出模塊，且該化學氧化劑為三價鐵離子溶液、四價錳離子溶液、具氧化力的化學物質、或其組合；

(B)通過該硫沉淀排出模塊移除該反應產物中的固體硫，再將移除固體硫后的該反應產物通入至一生物再生單元，其中該生物再生單元包括一再生化學氧化劑的生物體，通過該生物體以將該反應產物氧化成該化學氧化劑；以及

(C)回收經生物體氧化的該化學氧化劑至該化學儲存單元中。

11.如權利要求10所述的去除方法，其中該硫沉淀排出模塊包括一硫沉淀過濾單元及一硫沉淀排出單元，通過該硫沉淀過濾單元以將該反應產物中的固體硫由反應產物中分離，且該固體硫通過該硫沉淀排出單元移除。

12.如權利要求10所述的去除方法，其中該硫沉淀排出模塊還包括一液體暫存槽，移除固體硫后的反應產物先存放于該液體暫存槽中后再通入至該生物再生單元。

13.如權利要求10所述的去除方法，其中該化學除硫模塊包括至少一除硫管柱。

14.如權利要求10所述的去除方法，其中該化學除硫模塊包括多個除硫管柱，且所述除硫管柱以串聯或并聯連接。

15.如權利要求10所述的去除方法，其中該生物體為：將該反應產物氧化成該化學氧化劑的微生物或酵素。

16.如權利要求10所述的去除方法，其中該生物再生單元還包括：一液態培養基，使生物體懸浮生長；或一固態擔體，使該生物體附著于該固態擔體上或包埋于固態擔體中。

17.如權利要求10所述的去除方法，其中該含硫化氫氣體中的硫化氫濃度為1000ppm或以上。