[發(fā)明專利]基于硅通孔的螺線管式差分電感有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210463015.2 | 申請日： | 2012-11-16 |
| 公開（公告）號： | CN103824840A | 公開（公告）日： | 2014-05-28 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 唐萬春;陳如山;劉升;施永榮;王橙;黃承;沈來偉;朱建平 | 申請（專利權(quán)）人： | 南京理工大學(xué) |
| 主分類號： | H01L23/64 | 分類號： | H01L23/64 |
| 代理公司： | 南京理工大學(xué)專利中心 32203 | 代理人： | 朱顯國 |
| 地址： | 210094 *** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 基于 硅通孔 螺線管 式差分 電感 | ||
1.一種基于硅通孔的螺線管式差分電感，其特征在于：包括處于硅襯底[12]頂部和底部的金屬層中的金屬線、垂直貫穿硅襯底的硅通孔[1]和差分端口[6、7]；硅襯底[12]頂部和底部各有兩層金屬層，頂部金屬層一[T_M1]在頂部金屬層二[T_M2]上方，底部金屬層一[B_M1]在底部金屬層二[B_M2]下方；金屬層中的金屬線由若干組頂部平行金屬線[2]、頂部交叉金屬線[3]、底部平行金屬線[4]和底部交叉金屬線[5]組成；頂部平行金屬線[2]、底部平行金屬線[4]分別處于頂部金屬層二[T_M2]、底部金屬層二[B_M2]中；任意一組頂部交叉金屬線[3]、底部交叉金屬線[5]均由兩條彼此交叉絕緣的金屬線組成，其中頂部交叉金屬線[3]的兩條金屬線分別處于頂部金屬層一[T_M1]和頂部金屬層二[T_M2]中，底部交叉金屬線[5]的兩條金屬線分別處于底部金屬層一[B_M1]和底部金屬層二[B_M2]中；頂部或底部交叉金屬線中的一條金屬線與同層的平行金屬線直接連接，另一條金屬線通過頂部或底部的層間金屬通孔[9、10]與平行金屬線連接；硅通孔[1]的兩端分別與頂部平行金屬線[2]和底部平行金屬線[4]的一端相連；差分端口[6、7]位于頂部金屬層二[T_M2]中。
2.如權(quán)利要求1所述的基于硅通孔的螺線管式差分電感，其特征在于：所述硅通孔[1]的直徑和高度都相同，硅通孔[1]外圍的氧化層[9]的厚度相同。
3.如權(quán)利要求1所述的基于硅通孔的螺線管式差分電感，其特征在于：所述螺線管式差分電感為一圈或者多圈；圈數(shù)為N時(shí)，存在2N個(gè)硅通孔[1]和N-1組交叉金屬線。
4.如權(quán)利要求1所述的基于硅通孔的螺線管式差分電感，其特征在于：中心抽頭[8]在螺線管式差分電感長度的1/2處通過金屬引出。
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