[發明專利]筆跡校驗裝置和筆跡校驗方法在審
| 申請號: | 201210461705.4 | 申請日: | 2012-11-16 |
| 公開(公告)號: | CN103824094A | 公開(公告)日: | 2014-05-28 |
| 發明(設計)人: | 陳卓;潘友仁;羅誠 | 申請(專利權)人: | 方正國際軟件(武漢)有限公司;方正國際軟件有限公司 |
| 主分類號: | G06K9/68 | 分類號: | G06K9/68 |
| 代理公司: | 北京友聯知識產權代理事務所(普通合伙) 11343 | 代理人: | 尚志峰;汪海屏 |
| 地址: | 430000 湖北省武漢*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 筆跡 校驗 裝置 方法 | ||
1.一種筆跡校驗裝置,其特征在于,包括:
參數存儲單元,用于存儲手寫筆跡的預設特征參數;
獲取單元,用于識別用戶手寫筆跡并獲取所述手寫筆跡的特征參數;
參數比較單元,用于將所述手寫筆跡的特征參數與所述預設特征參數進行比較;
判斷單元,用于判斷所述手寫筆跡的特征參數與所述預設特征參數是否匹配,若匹配,則判定所述手寫筆跡通過校驗,若不匹配,則判定所述手寫筆跡校驗失敗。
2.根據權利要求1所述的筆跡校驗裝置,其特征在于,還包括:
修正單元,用于根據修正命令修正所述預設特征參數;以及
所述參數比較單元還用于將所述手寫筆跡的特征參數與修正后的預設特征參數進行比較。
3.根據權利要求1所述的筆跡校驗裝置,其特征在于,所述獲取單元還用于獲取通過校驗的手寫筆跡的特征參數;以及所述筆跡校驗裝置還包括:
更新單元,用于根據所述通過校驗的手寫筆跡的特征參數更新所述預設特征參數。
4.根據權利要求1所述的筆跡校驗裝置,其特征在于,還包括:
顯示單元,用于通過動態畫面顯示所述手寫筆跡的生成過程,并在所述動態畫面中標記出所述手寫筆跡中與所述預設特征參數不匹配的位置。
5.根據權利要求1至4中任一項所述的筆跡校驗裝置,其特征在于,所述預設特征參數包括以下至少一種:電壓、軌跡寬度和軌跡拐角弧度。
6.一種筆跡校驗方法,其特征在于,包括:
步驟202,存儲手寫筆跡的預設特征參數;
步驟204,識別用戶手寫筆跡并獲取所述手寫筆跡的特征參數,將所述手寫筆跡的特征參數與所述預設特征參數進行比較;
步驟206,判斷所述手寫筆跡的特征參數與所述預設特征參數是否匹配,若匹配,則判定所述手寫筆跡通過校驗,若不匹配,則判定所述手寫筆跡校驗失敗。
7.根據權利要求6所述的筆跡校驗方法,其特征在于,還包括:根據根修正命令修正所述預設特征參數,將所述手寫筆跡的特征參數與修正后的預設特征參數進行比較,并進入步驟206。
8.根據權利要求6所述的筆跡校驗方法,其特征在于,獲取通過校驗的手寫筆跡的特征參數,并根據所述通過校驗的手寫筆跡的特征參數更新所述預設特征參數。
9.根據權利要求6所述的筆跡校驗方法,其特征在于,還包括:通過動態畫面顯示所述手寫筆跡的生成過程,并在所述動態畫面中標記出所述手寫筆跡中與所述預設特征參數的不匹配的位置。
10.根據權利要求6至9中任一項所述的筆跡校驗方法,其特征在于,所述預設特征參數包括以下至少一種:電壓、軌跡寬度和軌跡拐角弧度。
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