[發明專利]化學藥液分配裝置有效
| 申請號： | 201210459209.5 | 申請日： | 2012-11-14 |
| 公開（公告）號： | CN102938385A | 公開（公告）日： | 2013-02-20 |
| 發明（設計）人： | 王營營;何金群;初國超;裴立坤;賈星杰 | 申請（專利權）人： | 北京七星華創電子股份有限公司 |
| 主分類號： | H01L21/67 | 分類號： | H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京路浩知識產權代理有限公司 11002 | 代理人： | 王瑩 |
| 地址： | 100015 北京*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 化學 藥液 分配 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種化學藥液分配裝置，其特征在于，包括：
儲存容器（1），其內部儲存化學藥液，其頂部設置有注液入口和回液入口，其底部設置有與循環泵（2）的輸入端連接的出液口；
采樣閥（12），其為三通閥，其輸入端連接循環泵（2）的輸出端，采樣端連接熱水注入通道（11），輸出端連接氣動三通閥（8）的輸入端；
氣動三通閥（8），其第一輸出端連接儲存容器（1）的回液入口，第二輸出端連接工藝單元（9）的輸入端，所述工藝單元（9）的輸出端連接所述儲存容器（1）的回液入口。
2.根據權利要求1所述的一種化學藥液分配裝置，其特征在于，所述工藝單元（9）為多個，所述氣動三通閥（8）與所述工藝單元（9）的數量相同，各個氣動三通閥（8）的第二輸出端分別與對應的工藝單元（9）的輸入端連接，每個工藝單元（9）的輸出端分別與所述儲存容器（1）的回液入口連接。
3.根據權利要求1所述的一種化學藥液分配裝置，其特征在于，所述熱水注入通道（11）上設置有流量控制元件。
4.根據權利要求1至3任意一項所述的一種化學藥液分配裝置，其特征在于，所述儲存容器（1）上設置有液位傳感器。
5.根據權利要求1至3任意一項所述的一種化學藥液分配裝置，其特征在于，所述循環泵（2）為磁力泵。
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H01 基本電氣元件
H01L 半導體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置；專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
H01L 半導體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置；專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
