[發明專利]清洗制造有機EL器件的氣相沉積掩模的方法及清洗液

無效

• 申請號: 201210459063.4
• 申請日: 2012-11-14
• 公開（公告）號: CN103157619A
• 公開（公告）日: 2013-06-19
• 發明（設計）人: 李殷相;金佑逸;金炳默;洪憲杓
• 申請（專利權）人: 東友FINE-CHEM股份有限公司
• 主分類號: B08B3/04
• 分類號: B08B3/04;B08B3/08;B08B3/12;C11D7/60;C11D7/50
• 代理公司: 北京派特恩知識產權代理事務所(普通合伙) 11270
• 代理人: 徐川;張穎玲

相關申請的交叉引用

本申請要求在2011年12月15日和2011年12月16日遞交的韓國專利申請號10-2011-0135850和10-2011-0136361的優先權，其通過引入而整體并入本文。

技術領域

本發明示例性的實施方式涉及清洗方法，且更具體地說，涉及用于去除在制造有機EL器件的氣相沉積過程中附著在掩模的有機EL材料，以及涉及用于有機EL掩模的清洗液組合物。

背景技術

作為顯示器件的平面顯示器備受關注，包括液晶顯示器件和具有有機電致發光(EL)器件的顯示器件。液晶顯示器件具有較低的能耗，但是需要外部光單元(背光單元)來得到明亮的圖像，然而具有有機EL器件的顯示器件與液晶顯示器件不用，其并不需要背光單元，這是因為有機EL器件是自發光，所以可降低能耗。此外，具有有機EL器件的顯示器件具有高亮度和寬視角的特點。根據有機材料的類型，有機EL器件可分為低分子型有機EL器件和高分子型有機EL器件。通過不同的方法可生產這些有機EL器件。就低分子型有機EL器件來說，通過氣相沉積過程形成薄膜，而對于高分子型有機EL器件，在溶液中溶解后通過旋涂方法或噴墨方法形成薄膜。

就低分子型有機EL器件來說，例如利用掩模通過真空氣相沉積依次在玻璃基板上形成正極、空穴注入層、空穴傳輸層、發光層、電子傳輸層以及負極而形成層狀結構。

利用放置在基板附近的掩模通過真空氣相沉積形成正極、空穴注入層、空穴傳輸層、發光層、電子傳輸層以及負極。然而，由于用于微細圖案尤其是RGB層的氣相沉積掩模需要高度精確，故其難以制造且非常昂貴。此外，當掩模在形成低分子型有機EL器件的有機層圖案的過程中用于多次氣相沉積時，有機材料沉積且附著在掩模上，使得高精確的掩模圖案不能轉移至基板。因此，為了實現高度精確的掩模圖案，一個多次使用的昂貴掩模將會作為廢物處理，這就增加了生產成本且難以大規模生產。在有機EL領域，目前并未嘗試通過重復利用掩模來節約成本。

試圖解決該問題，韓國專利公開10-2005-0054452公開了一種用于清洗掩模的溶液和方法，其中該掩模在真空氣相沉積中用于生產低分子型有機EL器件。然而，問題在于，在去除有機EL材料隨后的漂洗過程是復雜的且需要額外的漂洗液。此外，韓國專利公開10-2004-0072279公開了一種用于清洗有機EL(electroluminescence)掩模的裝置，但問題在于，用于蒸發和液化溶劑的裝置非常復雜且清洗過程耗時。另外，韓國專利公開10-2007-0065646公開了包括極性質子溶劑異丙醇的清洗液的用途，然而問題在于，清洗液溶解沉積材料的能力不足，不能達到完全清洗。

專利文件1：KR10-2005-0054452A

專利文件2：KR10-2004-0072279A

專利文件3：KR10-2007-0065646A

發明內容

因此，本發明是針對現有技術中存在的問題而完成。

本發明的實施方式提供了一種用于清洗有機EL掩模的方法，其具有優良的溶解有機EL材料的性能且能夠簡化被簡化的漂洗過程，以使得掩模干燥過程容易且簡單。

本發明的另一實施方式提供了一種清洗液以及利用該清洗液清洗掩模的方法，該清洗液具有優良的能力來溶解沉積材料，具有優良的干燥性能且不需要除去離子水外的單獨的漂洗液。

根據本發明的實施方式，用于清洗有機EL掩模的方法包括如下步驟：(A)在潔凈的腔室內提供四氫呋喃(THF)溶液；(B)將有機EL掩模浸泡在THF溶液中；(C)超聲清洗浸泡在THF溶液中的有機EL掩模；以及(D)用去離子水漂洗清洗后的有機EL掩模。

根據本發明的另一實施方式，用于有機EL掩模的清洗液包括四氫呋喃和異丙醇。

如上所述，用于清洗有機EL掩模的創造性方法具有溶解有機EL材料的優良性能，且能夠簡化漂洗過程，使得掩板的干燥過程容易且簡單。此外，根據本發明的清洗液具有優良的溶解沉積材料的性能且包括沸點低于水的溶劑。因此，清洗液具有優良的干燥性能且不需要除去離子水外的單獨的漂洗液。

附圖說明

圖1為示出了根據本發明的一實施方式用于清洗有機EL掩模的方法的流程圖。

具體實施方式

以下，將詳細描述根據本發明的用于清洗有機EL掩模的方法。