[發明專利]覆膜厚度控制系統、包括其的覆膜機以及覆膜厚度控制方法有效
| 申請號： | 201210458368.3 | 申請日： | 2012-11-14 |
| 公開（公告）號： | CN103802442A | 公開（公告）日： | 2014-05-21 |
| 發明（設計）人： | 張振一;張曉明;王森;謝志永;呂健;徐曉紅;盧惠娜;吳穎妹;羅七一 | 申請（專利權）人： | 上海微創醫療器械（集團）有限公司 |
| 主分類號： | B32B41/00 | 分類號： | B32B41/00 |
| 代理公司： | 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219 | 代理人： | 夏東棟;陸錦華 |
| 地址： | 201203 上海市浦東新區張江高科技*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 厚度 控制系統 包括 覆膜機 以及 控制 方法 | ||
1.一種覆膜厚度控制系統，其包括：
殼體；
依序裝配在所述殼體中的發光二極管陣列、中間支持件和光敏器件陣列，其中：
所述發光二極管陣列用于發射光，
所述中間支持件中設置有：與所述發光二極管陣列對應的上通孔陣列和下通孔陣列；以及在上下通孔陣列之間且與之連通的狹槽，用于讓膜通過，
所述發光二極管陣列裝配在所述上通孔陣列中，所述光敏器件陣列裝配在所述下通孔陣列中，用于將接收到的光轉換為端電壓；以及
控制電路，用于對標準電壓與光敏器件陣列的端電壓進行比較，并基于比較結果控制送膜的步進電機使得膜的厚度適合，其中，所述標準電壓為膜厚度適當時光敏器件陣列的端電壓。
2.根據權利要求1所述的覆膜厚度控制系統，其中，基于比較結果控制送膜的步進電機使得膜的厚度適合的步驟包括：當光敏器件陣列的端電壓大于標準電壓時，減小所述步進電機的扭矩；而當光敏器件陣列的端電壓小于標準電壓時，增加所述步進電機的扭矩。
3.根據權利要求1所述的覆膜厚度控制系統，其中，所述光敏器件選自光敏電阻、光電池、光敏二極管、光敏三極管中的任何一種。
4.根據權利要求3所述的覆膜厚度控制系統，其中，在所述狹槽中無膜和膜最厚時的端電壓都在光敏器件的線性工作區間內。
5.根據權利要求1所述的覆膜厚度控制系統，其中，所述光敏器件陣列的端電壓為所述光敏器件陣列中的有效光敏器件的端電壓的平均值。
6.根據權利要求1所述的覆膜厚度控制系統，其中，所述發光二極管陣列和所述光敏器件陣列的尺寸與膜的尺寸相適應。
7.根據權利要求1所述的覆膜厚度控制系統，其中，所述中間支持件由中間夾層和底座組裝而成，中間夾層中設置有所述上通孔陣列而所述底座中設置有所述下通孔陣列，所述狹槽形成于所述中間夾層與所述底座之間。
8.根據權利要求1所述的覆膜厚度控制系統，其中，所述控制電路在對標準電壓與端電壓進行比較之前，根據光敏器件陣列的端電壓是否達到最大值，來判斷狹槽中是否有膜通過。
9.根據權利要求1所述的覆膜厚度控制系統，其中，所述控制電路在單片機中實現。
10.一種覆膜厚度控制方法，所述方法包括：
利用設置在膜一側的發光二極管陣列發射光；
將所發射的光通過膜傳輸到設置在膜另一側的光敏器件陣列上；
利用所述光敏器件陣列將所接收的光轉換為端電壓；
對標準電壓與光敏器件陣列的端電壓進行比較，并基于比較結果控制送膜的步進電機使得膜的厚度適合，其中，所述標準電壓為膜厚度適當時光敏器件陣列的端電壓。
11.一種覆膜機，所述覆膜機中整合有如權利要求1-9中的任何一項所述的覆膜厚度控制系統以及用于送膜的步進電機。
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