[發明專利]一種產生法諾共振現象的金屬-介質耦合諧振腔無效
| 申請號: | 201210458329.3 | 申請日: | 2012-11-14 |
| 公開(公告)號: | CN102928912A | 公開(公告)日: | 2013-02-13 |
| 發明(設計)人: | 陳建軍;李智;張茹;肖井華 | 申請(專利權)人: | 北京郵電大學 |
| 主分類號: | G02B6/122 | 分類號: | G02B6/122 |
| 代理公司: | 北京萬象新悅知識產權代理事務所(普通合伙) 11360 | 代理人: | 張肖琪 |
| 地址: | 100876 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 產生 共振 現象 金屬 介質 耦合 諧振腔 | ||
1.一種金屬-介質耦合諧振腔,其特征在于,所述耦合諧振腔包括:金屬-介質-金屬MIM波導、以及在MIM波導內的分支諧振腔(4)和兩個擋板(5);其中,所述MIM波導為三層平板結構,第一層(1)和第三層(3)為金屬材料,二者之間為介質層(2);所述分支諧振腔(4)從側面耦合在金屬-介質-金屬MIM波導的介質層(2)上;所述兩個擋板(5)垂直設置在介質層(2)內,并分別位于所述分支諧振腔(4)的兩側。
2.如權利要求1所述的耦合諧振腔,其特征在于,所述MIM波導的第一層(1)和第三層(3)采用金或銀等。
3.如權利要求1所述的耦合諧振腔,其特征在于,所述介質層(2)的厚度h在10納米至1微米之間。
4.如權利要求1所述的耦合諧振腔,其特征在于,所述分支諧振腔(4)的剖面為矩形,長度d在100nm~1000nm之間;寬度w在10nm~1000nm之間。
5.如權利要求1所述的耦合諧振腔,其特征在于,所述分支諧振腔(4)和介質層(2)為相同的介質。
6.如權利要求1所述的耦合諧振腔,其特征在于,所述兩個擋板(5)的材料采用高折射率的介質或金屬。
7.如權利要求1所述的耦合諧振腔,其特征在于,所述兩個擋板(5)的厚度為1nm~100nm。
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