[發明專利]單晶硅片的制絨液及其制備方法

無效

• 申請號: 201210455103.8
• 申請日: 2012-11-14
• 公開（公告）號: CN102925984A
• 公開（公告）日: 2013-02-13
• 發明（設計）人: 黃侖;徐建;吳俊清;王金偉;史孟杰
• 申請（專利權）人: 東方電氣集團（宜興）邁吉太陽能科技有限公司
• 主分類號: C30B33/10
• 分類號: C30B33/10
• 代理公司: 南京天華專利代理有限責任公司 32218
• 代理人: 夏平

1.一種單晶硅片制絨液的添加劑，其特征在于其中包含的成分為：氫氧化鈉、四甘醇和余量的水，其中所述水為去離子水。

2.根據權利要求1所述的單晶硅片制絨液的添加劑，其特征在于所述四甘醇與水的體積比為1-10：30，氫氧化鈉與水的重量比為1-5：80。

3.根據權利要求1所述的單晶硅片制絨液的添加劑，其特征在于所述的氫氧化鈉為固體粉末。

4.一種單晶硅片制絨液的制備方法，其特征在于包括如下步驟：

(1)將重量百分含量為0.5-3%的NaOH和10-15%的IPA溶于去離子水中，得到堿性制絨液；

(2)將權利要求1所述的添加劑加入步驟(1)的堿性制絨液中，得到制絨液，其中添加劑與制絨液的重量比為1-3：100。

5.根據權利要求4所述的用于單晶硅片制絨液的制備方法，其特征在于所述步驟(1)中NaOH的重量百分比為2.5%，IPA的重量百分比為12%。

6.一種單晶硅片制絨方法，其特征在于，將權利要求1或2中的添加劑加入堿性制絨液中，然后將單晶硅片浸泡在含有添加劑的制絨液中進行表面構化，反應溫度為78-82℃，反應時間為800-1200s。

7.根據權利要求6所述的制絨方法，其中所述添加劑與制絨液的重量比為1-3：100。

8.根據權利要求7所述的制絨方法，其特征在于所述堿性制絨液通過將重量百分含量為0.5-3%的NaOH和10-15%的IPA溶于去離子水制成。

9.根據權利要求7的制絨方法，其特征在于所述堿性制絨液通過將重量百分含量為2.5%的NaOH和12%的IPA溶于去離子水中制成。