[發(fā)明專利]芯片用干膜去膜劑及制備方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210451883.9 | 申請日: | 2012-11-13 |
| 公開(公告)號: | CN102968002A | 公開(公告)日: | 2013-03-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 廖勇勤 | 申請(專利權(quán))人: | 大連三達(dá)維芯半導(dǎo)體材料有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/42 | 分類號: | G03F7/42 |
| 代理公司: | 大連非凡專利事務(wù)所 21220 | 代理人: | 閃紅霞 |
| 地址: | 116023 遼寧省大連*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 芯片 用干膜去膜劑 制備 方法 | ||
1.一種芯片用干膜去膜劑,其特征在于:由吡咯烷酮、酰胺、亞砜及二氧六環(huán)或二氧五環(huán)組成,所述各組分的質(zhì)量百分比如下:吡咯烷酮20~60%、酰胺10~70%、亞砜10%~50%、二氧六環(huán)或二氧五環(huán)5%~30%。
2.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的芯片用干膜去膜劑,其特征在于:所述各組分的質(zhì)量百分比如下:吡咯烷酮20~40%、酰胺10~30%、亞砜10%~30%、二氧六環(huán)或二氧五環(huán)5%~20%。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的芯片用干膜去膜劑,其特征在于:所述吡咯烷酮是甲基吡咯烷酮、乙基吡咯烷酮、羥乙基吡咯烷酮或2-吡咯烷酮。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的芯片用干膜去膜劑,其特征在于:所述酰胺是甲酰胺、乙酰胺、丙酰胺、苯甲酰胺、二甲基甲酰胺或二甲基乙酰胺。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的芯片用干膜去膜劑,其特征在于:所述亞砜是甲基亞砜、乙基亞砜、二甲基亞砜、二乙基亞砜或環(huán)丁亞砜。
6.一種如權(quán)利要求1所述芯片用干膜去膜劑的制備方法,其特征在于按如下步驟進(jìn)行:開動反應(yīng)釜攪拌器,轉(zhuǎn)速為500轉(zhuǎn)/分鐘,依次向反應(yīng)釜中加入計(jì)算量的吡咯烷酮、酰胺、亞砜、二氧六環(huán)或二氧五環(huán),所有料加入后繼續(xù)攪拌至反應(yīng)釜中的溶液呈均勻透明液體。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備





