[發(fā)明專利]渦旋式機(jī)械

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210451291.7
• 申請(qǐng)日: 2009-01-16
• 公開（公告）號(hào): CN103016344A
• 公開（公告）日: 2013-04-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 史蒂芬·M·塞貝爾;羅貝特·C·斯托弗;馬桑·阿凱
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 艾默生環(huán)境優(yōu)化技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): F04C18/02
• 分類號(hào): F04C18/02;F04C27/00
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 田軍鋒;高源

1.一種壓縮機(jī)，包括：

殼體，所述殼體限定形成第一排出通道的第一通道；

壓縮機(jī)構(gòu)，所述壓縮機(jī)構(gòu)支撐在所述殼體內(nèi)并且包括第一渦旋構(gòu)件和第二渦旋構(gòu)件，所述第一渦旋構(gòu)件和第二渦旋構(gòu)件以嚙合的方式彼此接合并形成一系列壓縮袋區(qū)，所述第一渦旋構(gòu)件包括延伸穿過其中并形成第二排出通道的第二通道；以及

軸向偏置系統(tǒng)，所述軸向偏置系統(tǒng)包括偏置構(gòu)件，所述偏置構(gòu)件具有彼此大體相反的第一表面和第二表面，所述第一表面包括暴露于來自其中一個(gè)所述壓縮袋區(qū)的中間壓力的第一徑向表面區(qū)域、以及暴露于排出壓力的第二徑向表面區(qū)域，所述第二表面包括暴露于所述中間壓力的第三徑向表面區(qū)域，所述偏置構(gòu)件能夠相對(duì)于所述殼體和所述第一渦旋構(gòu)件在第一位置與第二位置之間軸向移位，所述偏置構(gòu)件在處于所述第一位置時(shí)軸向接合所述第一渦旋構(gòu)件。

2.如權(quán)利要求1所述的壓縮機(jī)，其中，所述第二表面面對(duì)所述第一渦旋構(gòu)件。

3.如權(quán)利要求2所述的壓縮機(jī)，其中，所述第一徑向表面區(qū)域大于所述第三徑向表面區(qū)域。

4.如權(quán)利要求2所述的壓縮機(jī)，其中，所述第一徑向表面區(qū)域小于所述第三徑向表面區(qū)域。

5.如權(quán)利要求2所述的壓縮機(jī)，其中，所述第二表面包括暴露于所述排出壓力的第四徑向表面區(qū)域。

6.如權(quán)利要求5所述的壓縮機(jī)，其中，所述第二徑向表面區(qū)域大于所述第四徑向表面區(qū)域。

7.如權(quán)利要求6所述的壓縮機(jī)，其中，所述第一徑向表面區(qū)域小于所述第三徑向表面區(qū)域。

8.如權(quán)利要求5所述的壓縮機(jī)，其中，所述第二徑向表面區(qū)域小于所述第四徑向表面區(qū)域。

9.如權(quán)利要求6所述的壓縮機(jī)，其中，所述第一徑向表面區(qū)域大于所述第三徑向表面區(qū)域。

10.如權(quán)利要求2所述的壓縮機(jī)，還包括密封構(gòu)件，所述密封構(gòu)件與所述殼體和所述偏置構(gòu)件接合，并且在所述第一排出通道與第二排出通道之間形成密封排出路徑。

11.如權(quán)利要求2所述的壓縮機(jī)，其中，所述第一渦旋構(gòu)件包括第三通道，所述第三通道與在所述中間壓力下工作的其中一個(gè)所述壓縮袋區(qū)相連通，所述偏置構(gòu)件在處于第一位置時(shí)關(guān)閉所述開口。