[發明專利]可激光焊接的復合材料

有效

• 申請號: 201210451018.4
• 申請日: 2012-11-12
• 公開（公告）號: CN103101249A
• 公開（公告）日: 2013-05-15
• 發明（設計）人: 弗朗克·滕普林;迪米特里奧斯·佩羅斯
• 申請（專利權）人: 阿蘭諾德股份有限兩合公司
• 主分類號: B32B15/04
• 分類號: B32B15/04;B32B18/00;F24J2/48
• 代理公司: 北京金信立方知識產權代理有限公司 11225
• 代理人: 黃威;嚴彩霞

1.可激光焊接的復合材料（V），所述復合材料尤其適用于太陽能收集器元件，所述復合材料包括帶狀的、由對激光射線具有高反射性能的金屬制成的基體（1），所述基體具有第一面（A）和第二面（B），其中，至少在所述第一面（A）上具有陶瓷涂層（7），

其特征在于，從所述基體（1）出發看去，在所述陶瓷涂層（7）上存在金屬層（8），而且對所述陶瓷涂層（7）的厚度（D₇）和金屬層的厚度（D₈）的大小進行設計，以使得入射的激光束（L）的波長（λ）為1064nm且入射角（α）在65°到80°的范圍內時，所述基體（1）的第一面（A）上的按照DIN?5036第三部分確定的總反射率（R）小于60%。

2.根據權利要求1所述的復合材料（V），其特征在于，所述基體（1）的第一面（A）上的陶瓷涂層（7）的厚度（D₇）落在20nm至135nm的范圍內，優選落在40nm至95nm的范圍內。

3.根據權利要求1或2所述的復合材料（V），其特征在于，所述基體（1）的第一面（A）上的金屬層（8）的厚度（D₈）落在5nm至25nm的范圍內，優選落在10nm至20nm的范圍內，特別優選15nm。

4.根據權利要求1至3之一所述的復合材料（V），其特征在于，所述基體（1）的第一面（A）上的陶瓷涂層（7）由氧化鋁制成。

5.根據權利要求1至4之一所述的復合材料（V），其特征在于，所述復合材料的基體（1）由鋁制成。

6.根據權利要求4和5所述的復合材料（V），其特征在于，所述基體（1）的第一面（A）上的陶瓷涂層（7）的氧化鋁由所述基體（1）的鋁經陽極氧化或經電解拋光且經陽極氧化而形成。

7.根據權利要求1至6之一所述的復合材料（V），其特征在于，所述基體（1）的第一面（A）上的金屬層（8）包含鉻和/或鈦或者完全由這些材料制成。

8.根據權利要求1至7之一所述的復合材料（V），其特征在于，對所述陶瓷涂層（7）的厚度（D₇）和所述金屬層（8）的厚度（D₈）的大小進行設計，以使得入射的激光束（L）的波長（λ）為1064nm且入射角（α）在65°到80°的范圍內時，所述基體（1）的第一面（A）上的按照DIN?5036第三部分確定的總反射率（R）小于50%，優選小于40%。

9.根據權利要求1至8之一所述的復合材料（V），其特征在于，在所述基體（1）的第二面（B）上存在陶瓷涂層（2），該陶瓷涂層尤其形成中間層（2）。

10.根據權利要求9所述的復合材料（V），其特征在于，所述基體（1）的第二面（B）上的陶瓷涂層（2）是用與位于所述基體（1）的第一面（A）上的陶瓷涂層（7）同樣的方式制成的。

11.根據權利要求1至10之一所述的復合材料（V），其特征在于，在所述基體（1）的第二面（B）上存在光學有效的多層系統（3），該多層系統包括至少兩個層（4，5），優選包括至少三個層（4，5，6）。

12.根據權利要求1至11之一所述的復合材料（V），其特征在于，所述金屬層（8）和/或，如果必要的話，所述光學有效的多層系統（3），至少局部地是以連續的真空帶狀涂覆法施加到陶瓷涂層（7，2）上，所述陶瓷涂層（7，2）位于所述基體（1）的第一面（A）上和，如果必要的話，位于所述基體（1）的第二面（B）上。

13.根據權利要求11或12所述的復合材料（V），其特征在于，所述光學有效的多層系統（3）包括兩個絕緣和/或氧化層（4，5），即上部層（4）和位于該上部層之下且主要起吸收可見光作用的層（5），所述上部層（4）是折射率n＜1.8的氧化層、氟化層、硫化層、氮化層、氧氮化層和/或碳氧氮化層。

14.根據權利要求11至13之一所述的復合材料（V），其特征在于，所述光學有效的多層系統（3）包括三個層（4，5，6），其中，一個/所述上部層（4）是絕緣層和/或氧化層，一個/所述主要起吸收可見光作用的層（5）形成中部的層，以及最下層（6）是金屬紅外反射層，所述最下層優選用金、銀、銅、鉻、鋁和/或鉬制成。