[發(fā)明專利]一種去除光刻膠殘留物的清洗液有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210450907.9 | 申請日： | 2012-11-12 |
| 公開（公告）號： | CN103809392B | 公開（公告）日： | 2020-03-13 |
| 發(fā)明（設計）人： | 劉兵;彭洪修;孫廣勝;顏金荔;徐海玉 | 申請（專利權）人： | 安集微電子科技（上海）股份有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/42 | 分類號： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京大成律師事務所 11352 | 代理人： | 李佳銘 |
| 地址： | 201201 上海市浦東新區(qū)華東路*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 去除 光刻 殘留物 清洗 | ||
【權利要求書】：
1.一種在90℃至120℃下去除光刻膠殘留物的清洗液，其特征在于，所述清洗液由環(huán)丁砜、二甘醇胺以及輔助溶劑組成，其中所述的輔助溶劑選自二甲基亞砜、2-咪唑烷酮、1,3-二甲基-2-咪唑烷酮、N-甲基吡咯烷酮、N-環(huán)己基吡咯烷酮、N-羥乙基吡咯烷酮、1,3-二甲基-2-咪唑啉酮、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、二乙二醇單丁醚、二丙二醇單甲醚、乙醇胺、四氫糠醇中的一種或多種，且所述輔助溶劑的含量為10-65wt％，所述環(huán)丁砜的含量為15-60wt％；所述二甘醇胺的含量為20-50wt％。
2.如權利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述環(huán)丁砜的含量為20-60wt％。
3.如權利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述輔助溶劑的含量為10-50wt％。
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