[發明專利]一種新型顯影噴淋機構

在審

• 申請號: 201210449582.2
• 申請日: 2012-11-12
• 公開（公告）號: CN103809389A
• 公開（公告）日: 2014-05-21
• 發明（設計）人: 魏志凌;高小平;潘世珎;張煒平
• 申請（專利權）人: 昆山允升吉光電科技有限公司
• 主分類號: G03F7/30
• 分類號: G03F7/30;B05B13/02;B05B1/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及噴液顯影領域，尤其是涉及一種顯影噴淋機構。?

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背景技術

采用電鑄或蝕刻工藝制作印刷線路掩模板的前期工作一般涉及到以下工序：即基板貼干膜→曝光→顯影。一般掩模板開口要求孔壁光滑，尺寸精密，只有保證開口，掩模板才能在使用中有很好的印刷效果。高精密掩模板的制作要求在掩膜板制作過程中每一個環節都能做到較高精度，其中在顯影環節中顯影的質量對后續工序的影響非常大，因此在顯影過程中要求顯影機的顯影能力均勻穩定。?

傳統顯影機噴淋裝置的上噴管陣列由若干相互平行且等間距排列的上噴管構成，噴管橫截面與顯影機的傳送方向平行且垂直于傳送面，上噴管上等間距設置有等間距排布的多個噴嘴，所有噴嘴構成一個方形噴淋區，需要顯影的基板沿顯影機傳送方向進入方形噴淋區域，由于“水池效應”等效應的存在，基板兩側區域的顯影速度相對中間區域顯影速度更快。這種顯影方式易造成基板兩側區域與中間區域的顯影不均勻，特別是在基板的上表面，由此會造成操作人員不易把握顯影點，從而導致基板上干膜顯影不足或顯影過度，影響最終產品質量。因此，業界需要設計出更合理的顯影噴淋裝置。?

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發明內容

本發明旨在至少解決現有技術中存在的技術問題之一。為此，本發明的一個目的在于提出一種新型顯影噴淋機構，所述新型顯影噴淋機構可有效降低“水池效應”影響，使顯影效果更加均勻，便于操作員對顯影點的把握，從而制備結構要求更加精密的掩膜板產品。?

根據發明實施例的一種新型顯影噴淋機構，包括：由多種噴嘴排列結構不同的且相互平行規則排列的上噴管組成的上噴管陣列和噴嘴。?

噴液通過外界設備輸入上噴管組成的上噴管陣列，并通過噴嘴向下噴出顯影液，由于上噴管陣列由多種相互平行且規則排布的上噴管組成而組成上噴管陣列的上噴管上的噴嘴也排列規則，使噴嘴噴出的顯影液形成的覆蓋區域的顯影液流速及濃度都不相同，由此，可有效降低“水池效應”影響，使顯影效果更加均勻，制備更精密的掩膜板產品。?

優選地，所述上噴管陣列由兩種所述噴嘴排列結構不同且等間距相間排布的上噴管組成。?

另外，根據本發明的新型顯影噴淋機構還具有如下附加技術特征：?

所述上噴管橫截面平行顯影傳送方向且垂直于顯影傳送面。

所述噴嘴向下并垂直傳送平面且數量至少1個。?

由此，可以保證噴嘴噴出的顯影液能夠直接垂直的噴淋到待顯影的基板。?

所述噴嘴為中間噴嘴分布密度大于兩側噴嘴分布密度，且兩側噴嘴的位置對稱規則排布。?

優選地，所述噴嘴由中間往兩側的相鄰噴嘴間距值構成等差數列。?

由此，可以增加上噴管陣列中部的噴淋量，降低上噴管陣列邊緣的噴淋量，有效地降低噴淋過程中產生的“水池效應”。?

所述噴嘴在不同結構上噴管上的位置在顯影傳送方向上相互錯開。?

由此，使噴嘴在顯影傳送方向上的顯影液噴淋覆蓋區域更加均勻，可以進一步降低噴淋過程中產生的“水池效應”。?

所述噴嘴的噴液形狀為實心錐體、虛心椎體或扇面形狀，且所述噴嘴噴出噴液存在重合區域。?

由此，可以避免噴嘴噴淋區域出現非重合區域，避免出現噴淋區域顯影液覆蓋不均勻的可能。?

所述新型顯影噴淋機構還包括支撐部件。?

本發明的附加方面和優點將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過本發明的實踐了解到。?

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附圖說明

本發明的上述和/或附加的方面和優點從結合下面附圖對實施例的描述中將變得明顯和容易理解，其中：?

圖1為一種傳統顯影機上噴管陣列排布示意圖；

圖2為根據本發明的一個實施例的上噴管陣列排布示意圖；

圖3為根據本發明的另一實施例的上噴管陣列排布示意圖；

圖4是圖3所示的新型顯影噴淋機構的A—A′方向示意圖；

圖5是圖3所示新型顯影噴淋機構正面A—A′方向示意圖和

圖6是圖3所示的新型顯影噴淋機構的噴管噴液時的示意圖。

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具體實施方式

下面詳細描述本發明的實施例，所述實施例的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類似的標號表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實施例是示例性的，僅用于解釋本發明，而不能理解為對本發明的限制。?