[發(fā)明專利]渦旋反應(yīng)釜合成裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210449241.5
• 申請日: 2012-11-12
• 公開（公告）號: CN102989408A
• 公開（公告）日: 2013-03-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 龔光波
• 申請（專利權(quán)）人: 武漢金一波科技有限公司
• 主分類號: B01J19/24
• 分類號: B01J19/24;C01F7/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.渦旋反應(yīng)釜合成裝置，包括反應(yīng)釜體(1)；其特征在于：還包括設(shè)置在反應(yīng)釜體(1)內(nèi)的渦旋隔離機(jī)構(gòu)(2)；所述渦旋隔離機(jī)構(gòu)(2)包括多片蝶形葉片(21)、中心柱(22)和上層隔離篩(23)；所述多片蝶形葉片(21)按照逆時(shí)針螺旋上升狀分層安裝在中心柱(22)上；所述中心柱(22)底部與上層隔離篩(23)固定；所述上層隔離篩(23)固定在反應(yīng)釜體(1)的內(nèi)壁下端。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的渦旋反應(yīng)釜合成裝置，其特征在于：所述反應(yīng)釜體(1)包括外殼(11)、內(nèi)膽(12)、進(jìn)料口和出料口；所述外殼(11)和內(nèi)膽(12)之間形成夾層(13)；所述進(jìn)料口和出料口分別設(shè)置在反應(yīng)釜體(1)頂部和底部；所述進(jìn)料口處設(shè)置進(jìn)料裝置(3)；所述出料口處設(shè)置排料閥(4)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的渦旋反應(yīng)釜合成裝置，其特征在于：所述反應(yīng)釜體(1)的外殼(11)和內(nèi)膽(12)均由依次相連的圓弧頂部、垂直壁和圓弧底部組成。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的渦旋反應(yīng)釜合成裝置，其特征在于：所述渦旋隔離機(jī)構(gòu)(2)設(shè)置在所述反應(yīng)釜體(1)的內(nèi)膽(12)內(nèi)，還包括設(shè)置在上層隔離篩(23)下方，且與內(nèi)膽(12)固定的下層隔離篩(24)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的渦旋反應(yīng)釜合成裝置，其特征在于：所述上層隔離篩(23)固定在內(nèi)膽(12)的垂直壁下端的十分之一處；所述下層隔離篩(24)固定在內(nèi)膽(12)的垂直壁與圓弧底部連接處。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的渦旋反應(yīng)釜合成裝置，其特征在于：所述上層隔離篩(23)和下層隔離篩(24)均為不銹鋼材質(zhì)，其上皆均勻分布小孔；所述上層隔離篩(23)上的小孔的孔徑大于下層隔離篩(24)上的孔徑，且二者孔徑比例為5∶3。

7.根據(jù)權(quán)利要求2至6之一所述的渦旋反應(yīng)釜合成裝置，其特征在于：還包括補(bǔ)水冷卻機(jī)構(gòu)(5)；所述補(bǔ)水冷卻機(jī)構(gòu)(5)包括補(bǔ)水噴嘴(51)；所述補(bǔ)水噴嘴(51)安裝在反應(yīng)釜體(1)的內(nèi)膽(12)上，位于所述上層隔離篩(23)上方，并與外部水源連通。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的渦旋反應(yīng)釜合成裝置，其特征在于：所述補(bǔ)水噴嘴(51)的噴嘴位置對準(zhǔn)所述渦旋隔離機(jī)構(gòu)(2)的中心柱(22)與所述反應(yīng)釜體(1)的內(nèi)膽(12)內(nèi)壁的中間點(diǎn)，其噴射出的水使位于所述上層隔離篩(23)上的反應(yīng)物按逆時(shí)針方向移動(dòng)。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的渦旋反應(yīng)釜合成裝置，其特征在于：所述補(bǔ)水冷卻機(jī)構(gòu)(5)還包括補(bǔ)水盤管(52)、止水閥和補(bǔ)水泵；所述補(bǔ)水盤管(52)為緊貼在所述反應(yīng)釜體(1)的內(nèi)膽(12)外壁的不銹鋼半管，并與補(bǔ)水噴嘴(51)連通；所述止水閥設(shè)置在補(bǔ)水盤管(52)的進(jìn)水口處；所述補(bǔ)水泵與補(bǔ)水盤管(52)相通。