[發(fā)明專利]形成埋入式導(dǎo)線的方法及埋入式導(dǎo)線的結(jié)構(gòu)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210447327.4
• 申請(qǐng)日: 2012-11-09
• 公開（公告）號(hào): CN103377997A
• 公開（公告）日: 2013-10-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 維偉克·戈帕蘭
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 南亞科技股份有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/768
• 分類號(hào): H01L21/768;H01L23/528
• 代理公司: 北京同立鈞成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205
• 代理人: 臧建明

1.一種形成埋入式導(dǎo)線的方法，其特征在于，包括：

提供基底，該基底中有溝槽且上有接觸區(qū)域，其中該溝槽有一末端部分位于該接觸區(qū)域中，且該溝槽中填充有導(dǎo)電層；

形成罩幕層覆蓋該溝槽的該末端部分中的該導(dǎo)電層；以及

以該罩幕層為罩幕回蝕刻該導(dǎo)電層。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的形成埋入式導(dǎo)線的方法，其特征在于，還包括：

移除該罩幕層；

在該基板上形成介電層；以及

在該介電層中形成至少一個(gè)接觸窗，該接觸窗位于該溝槽的該末端部分中的該導(dǎo)電層上。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的形成埋入式導(dǎo)線的方法，其特征在于，還包括：

在移除該罩幕層之后但在形成該介電層之前，在不位在該溝槽的該末端部分中的該導(dǎo)電層之上形成頂蓋層。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的形成埋入式導(dǎo)線的方法，其特征在于，該導(dǎo)電層與該基底以絕緣層相隔。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的形成埋入式導(dǎo)線的方法，其特征在于，該埋入式導(dǎo)線是用作字元線。

6.一種埋入式導(dǎo)線的結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括：

基底，該基底中有溝槽且上有接觸窗，其中該溝槽有一末端部分位于接觸區(qū)域中；以及

導(dǎo)電層，填充于該溝槽中，其中該溝槽的該末端部分中的該導(dǎo)電層的頂部高于不位在該溝槽的該末端部分中的該導(dǎo)電層的頂部。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的埋入式導(dǎo)線的結(jié)構(gòu)，其特征在于，還包括：

介電層，覆蓋該基底及該導(dǎo)電層；以及

至少一個(gè)接觸窗，位于介電層中，且位于該溝槽的該末端部分中的該導(dǎo)電層上。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的埋入式導(dǎo)線的結(jié)構(gòu)，其特征在于，還包括：頂蓋層，位于不位在該溝槽的該末端部分中的該導(dǎo)電層之上。

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的埋入式導(dǎo)線的結(jié)構(gòu)，其特征在于，還包括絕緣層，該導(dǎo)電層與該基底以該絕緣層相隔。

10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的埋入式導(dǎo)線的結(jié)構(gòu)，其特征在于，該埋入式導(dǎo)線是用作字元線。