[發明專利]一種聚合物納米通道的制作方法

有效

• 申請號: 201210447091.4
• 申請日: 2012-11-09
• 公開（公告）號: CN102910575A
• 公開（公告）日: 2013-02-06
• 發明（設計）人: 周杰;郭進;馮俊波;滕婕;王俊
• 申請（專利權）人: 中國電子科技集團公司第三十八研究所;合肥公共安全技術研究院
• 主分類號: B81C1/00
• 分類號: B81C1/00
• 代理公司: 安徽匯樸律師事務所 34116
• 代理人: 胡敏

1.一種聚合物納米通道的制作方法，其特征在于，包括以下步驟：

（1）在清洗后的襯底上旋轉涂覆抗蝕劑，獲得抗蝕劑層；

（2）烘烤除去抗蝕劑溶劑；

（3）通過曝光和顯影，獲得成對的納米線條結構；

（4）用清洗液清洗納米線條結構，待清洗液在空氣中完全揮發后，納米通道制作完成。

2.根據權利要求1所述的一種聚合物納米通道的制作方法，其特征在于：所述步驟（1）中，旋轉涂覆包括先低轉速旋轉再高轉速旋轉，所述低轉速為500轉/s～1000轉/s，涂覆時間為10s～60s，高轉速旋轉為1500轉/s～3000轉/s，涂覆時間為10s～60s，獲得抗蝕劑層的厚度為0.3μm～5μm。

3.根據權利要求1所述的一種聚合物納米通道的制作方法，其特征在于：所述步驟（1）中，襯底為硅襯底，抗蝕劑為聚甲基丙烯酸甲酯。

4.根據權利要求1所述的一種聚合物納米通道的制作方法，其特征在于：所述步驟（2）中，在180℃的熱臺上烘烤1～3min。

5.根據權利要求1所述的一種聚合物納米通道的制作方法，其特征在于：所述步驟（3）中納米線條結構的線寬為50nm～200nm，均為凸起結構，高度為300?nm～5μm。

6.根據權利要求1所述的一種聚合物納米通道的制作方法，其特征在于：所述步驟（4）中，清洗液與抗蝕劑的接觸角小于90°。

7.根據權利要求1所述的一種聚合物納米通道的制作方法，其特征在于：所述清洗液為異丙醇或水。