[發(fā)明專利]一種改進(jìn)型晶硅電池片的清洗工藝在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210445432.4 | 申請(qǐng)日： | 2012-11-08 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN103806108A | 公開（公告）日： | 2014-05-21 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 魏代龍;徐盼盼;陶智華;周利榮 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 上海神舟新能源發(fā)展有限公司 |
| 主分類號(hào)： | C30B33/10 | 分類號(hào)： | C30B33/10 |
| 代理公司： | 上海科盛知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31225 | 代理人： | 蔣亮珠 |
| 地址： | 201112 上海市閔行*** | 國(guó)省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 改進(jìn)型 電池 清洗 工藝 | ||
1.一種改進(jìn)型晶硅電池片的清洗工藝，其特征在于，該工藝包括以下步驟：將制絨后的晶硅電池片依次經(jīng)過(guò)堿洗和酸洗處理，所述的堿洗采用的堿液為：濃度范圍為0.1mol/L～3mol/LNH4OH與濃度范圍為0.1mol/L～3mol/LH2O2的混合液，該混合液中NH4OH和H2O2的濃度比例為1～2，堿洗的溫度為30℃～60℃，時(shí)間為2～30min；所述的酸洗采用的酸液為濃度范圍為0.15mol/L～3mol/LHCl與濃度范圍為0.15mol/L～3mol/L的H2O2的混合物，該混合物中HCl和H2O2的濃度比例為1～1.5之間，反應(yīng)溫度范圍為30℃～60℃，反應(yīng)時(shí)間范圍為2～30min。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種改進(jìn)型晶硅電池片的清洗工藝，其特征在于，所述的晶硅電池片為單晶硅電池片或多晶硅電池片。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種改進(jìn)型晶硅電池片的清洗工藝，其特征在于，所述的晶硅電池片為單晶硅電池片，將單晶硅電池片先進(jìn)行堿洗處理后，再進(jìn)行制絨，然后再進(jìn)行酸洗。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的一種改進(jìn)型晶硅電池片的清洗工藝，其特征在于，所述的單晶硅電池片為P型硅片、P型準(zhǔn)單晶硅片或N型單晶硅片。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種改進(jìn)型晶硅電池片的清洗工藝，其特征在于，堿洗和酸洗前后對(duì)晶硅電池片采用清水漂洗。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種改進(jìn)型晶硅電池片的清洗工藝，其特征在于，所述的晶硅電池片的厚度為180～200um。
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