[發明專利]一種控制離子注入均勻分布的方法

有效

• 申請號: 201210442577.9
• 申請日: 2012-11-08
• 公開（公告）號: CN103794452A
• 公開（公告）日: 2014-05-14
• 發明（設計）人: 吳巧艷
• 申請（專利權）人: 北京中科信電子裝備有限公司
• 主分類號: H01J37/317
• 分類號: H01J37/317;H01J37/147
• 代理公司: 長沙正奇專利事務所有限責任公司 43113
• 代理人: 馬強

1.一種用于精確控制離子注入分布均勻的系統包括：多線圈調節磁鐵、多級調節磁極、移動法拉第杯、采樣法拉第杯、直線電機和PMAC運動控制系統。

2.如權利要求1所述的一種用于精確控制離子注入分布均勻的系統，其特征在于：安裝在寬束平行透鏡入口的多線圈調節磁鐵和安裝在寬束平行透鏡出口的多級調節磁極配合，調節寬帶束的均勻性和平行度。其中多線圈調節磁鐵通過調節每組線圈的電流狀態，改變束流通過區域的磁場分布，進而改變束流通過調節區域后的角度分布；多級調節磁極通過各電機調節各電極的垂直位置，改變與對稱磁極之間的極距，調節局部的磁場強度，最終改變穿過該區域的離子束的偏轉角度以調節寬帶束的平行度參數。

3.如權利要求1所述的一種用于精確控制離子注入分布均勻的系統，其特征在于：移動法拉第杯和采樣法拉第杯通過同軸電纜與PMAC運動控制系統相連。其中采樣法拉第杯用于采集束流值，配合多線圈調節磁鐵及多級調節磁極完成平行度與均勻性檢測；移動法拉第杯用于采集束流值并進行寬帶束的平行度與水平方向均勻性校正。

4.如權利要求1所述的一種用于精確控制離子注入分布均勻的系統，其特征在于：直線電機是運動部分執行部件。控制束流采集計算后，控制改變直線電機上下往返運動垂直掃描速度，以達到垂直方向的均勻性。

5.如權利要求1所述的一種用于精確控制離子注入分布均勻的系統，其特征在于：PMAC運動控制器進行束流采集轉換并且完成核心算法處理，控制執行機構完成均勻性校正。