[發明專利]光觸媒水凈化裝置

有效

• 申請號: 201210436808.5
• 申請日: 2012-10-24
• 公開（公告）號: CN103663611A
• 公開（公告）日: 2014-03-26
• 發明（設計）人: 胡振宇;陳肇和;王鏡竣;朱維屏;張淑美;吳紀圣;莊賦祥
• 申請（專利權）人: 大漢光電股份有限公司
• 主分類號: C02F1/32
• 分類號: C02F1/32
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 姚亮

1.一種光觸媒水凈化裝置，其包括：

至少一水渠道，由至少一可撓性薄片、至少一上部密封基板以及至少一下部密封基板互相密封所構成，所述可撓性薄片的厚度方向與所述上部密封基板以及所述下部密封基板的厚度方向實質上互相成垂直而構成一水流空間；

光觸媒薄膜，形成于所述水渠道的所述可撓性薄片上，可與水接觸；以及

至少一紫外線發光二極管模塊，設置于所述上部密封基板和/或所述下部密封基板，以使所述紫外線發光二極管模塊發出的光照射流經所述光觸媒薄膜上的水。

2.如權利要求1所述的光觸媒水凈化裝置，其中，所述水渠道是由多個可撓性薄片、一上部密封基板以及一下部密封基板互相密封所構成，所述上部密封基板以及所述下部密封基板分別具有多個凹槽，所述多個可撓性薄片分別從其長度方向卷成為具有一開口的半徑依序由大變小的圓環狀，并嵌入所述上部密封基板以及所述下部密封基板的凹槽，且排列成相鄰圓環狀的二開口設置于相對所述水渠道的中心的最遠的兩側，使相鄰圓環狀的所述二開口的距離為最大。

3.如權利要求1所述的光觸媒水凈化裝置，其中，所述水渠道是由一可撓性薄片、一上部密封基板以及一下部密封基板互相密封所構成，所述可撓性薄片從其長度方向卷成為螺旋狀，與所述上部密封基板以及所述下部密封基板黏合而構成螺旋狀的所述水流空間。

4.如權利要求1所述的光觸媒水凈化裝置，其中，所述上部密封基板和/或所述下部密封基板為光學上可透過紫外光的基板，所述紫外線發光二極管模塊設置于與所述水流空間相反側的可透過紫外光的基板，發出的紫外光可透過所述透明基板而照射流經所述光觸媒薄膜上的水。

5.如權利要求4所述的光觸媒水凈化裝置，其中，所述水凈化裝置包括2個水渠道及2個紫外線發光二極管模塊，所述2個水渠道，以背對背的串聯方式連接，其是由至少一可撓性薄片、二上部密封基板以及一下部密封基板互相密封所構成，2個水流空間分別形成于所述下部密封基板的兩面，所述上部密封基板為光學上可透過紫外光的基板，所述紫外線發光二極管模塊設置于與水流空間相反側的所述上部密封基板上，所述光觸媒薄膜形成于所述可撓性薄片上。

6.如權利要求1所述的光觸媒水凈化裝置，其中，所述水流空間還具備多個側翼板，光觸媒薄膜形成于所述多個側翼板的表面，以增加光觸媒薄膜與水的接觸面積。

7.如權利要求1所述的光觸媒水凈化裝置，其中，所述可撓性薄片的表面，具有多個凹凸構造，在所述多個凹凸構造上，形成有光觸媒薄膜。

8.如權利要求1所述的光觸媒水凈化裝置，其中，所述水流空間還具備拉絲的不銹鋼片，所述拉絲的不銹鋼片的表面，形成有光觸媒薄膜。

9.如權利要求1所述的光觸媒水凈化裝置，其還包括：一給水泵，用以調節水流的流速。

10.如權利要求1所述的光觸媒水凈化裝置，其還包括：一氣泡機，用以提供氣泡予所述水流空間。

11.如權利要求1所述的光觸媒水凈化裝置，其中，所述上部密封基板以及所述下部密封基板中之一為光學上可透過紫外光的基板，另一個為可反射光線的基板。

12.如權利要求11所述的光觸媒水凈化裝置，其中，所述可透過紫外光的基板為塑料材料所構成，所述可反射光線的基板為不銹鋼所構成。

13.如權利要求1所述的光觸媒水凈化裝置，其中，所述光觸媒薄膜是由二氧化鈦先驅物所構成，所述二氧化鈦先驅物包括四乙氧化鈦、四異丙氧化鈦、四丁氧化鈦、鈦酸四丁酯、四氯化鈦中的一種或幾種的組合。

14.如權利要求1所述的光觸媒水凈化裝置，其中，所述光觸媒薄膜是利用電漿化學氣相沉積法，形成于所述可撓性薄片上后，進行一退火處理而形成。

15.如權利要求14所述的光觸媒水凈化裝置，其中，使用塑料基材時，所述退火處理在80℃下進行12小時，使用金屬或玻璃基材時，所述退火處理在350℃-600℃進行10分鐘-3小時。

16.如權利要求1項所述的光觸媒水凈化裝置，其中，所述紫外線發光二極管模塊的表面以及所述上部密封基板的表面以及所述下部密封基板的表面，形成有光觸媒薄膜。

17.一種光觸媒水凈化系統，其包括：以串聯方式及/或并聯方式連接多個權利要求1至16中任一項所述的光觸媒水凈化裝置中的1種以上的光觸媒水凈化裝置。