[發明專利]一種減小漆膜顏料在高溫真空環境下揮發的方法

無效

• 申請號: 201210432199.6
• 申請日: 2012-11-02
• 公開（公告）號: CN102912294A
• 公開（公告）日: 2013-02-06
• 發明（設計）人: 王潔冰;李林;許旻;趙印中;馮煜東;吳春華;左華平;張尚煒
• 申請（專利權）人: 中國航天科技集團公司第五研究院第五一〇研究所
• 主分類號: C23C14/08
• 分類號: C23C14/08;C23C14/35
• 代理公司: 甘肅省知識產權事務中心 62100
• 代理人: 馬英

技術領域

本發明涉及一種減小漆膜顏料在高溫真空環境下揮發的方法，屬于薄膜技術領域。

背景技術

隨著科學技術在不同領域的交叉應用，對材料在各種復雜環境下的性能產生了更新的需求，一些使用噴涂和印刷方式制備于物體表層的漆膜顏料也逐漸應用于高溫和真空的環境條件下，如空間探測器表的標識等。但在這些新環境下的使用會因漆膜顏料的揮發變色而造成一定的局限性。一方面，無論是有機顏料漆膜還是無機顏料漆膜，在高溫的環境下，漆膜顏料分子會因熱運動加劇而易于脫離基底材料，造成一定程度顏料揮發；另一方面，真空環境下，漆膜顏料的飽和蒸汽壓降低，更加劇了漆膜顏料的揮發。因此，在高溫及真空的環境條件下，漆膜顏料會因嚴重的揮發問題而限制了其應用。

為了能夠解決在高溫及真空的環境條件下漆膜顏料的揮發問題，有人采用增加顏（料）基（料）比的方式，既增加顏料的比例，使得漆膜在高溫與真空條件下揮發掉一定量的顏料后仍能保持滿足使用要求的顏基比，但這種方式并沒有直接減小漆膜的顏料揮發問題，同時會帶來較大的真空揮發和質損，在對污染敏感的使用條件下（如空間光學鏡頭等），會造成一定的應用局限性。因此需要從其它技術角度出發，減小高溫及真空的環境條件下漆膜顏料的揮發問題。

發明內容

本發明提供一種減小漆膜顏料在高溫真空環境下揮發的方法，能夠明顯減小漆膜顏料在高溫真空環境下揮發，拓展漆膜顏料的使用。

本發明的目的是通過下述技術方案實現的：

一種減小漆膜顏料在高溫真空環境下揮發的方法，是在制備好的顏料漆膜表面鍍制氧化物陶瓷膜層。

其具體工藝步驟如下：

步驟一：顏料漆膜的制備：將顏料混入有機硅涂料，采用絲網印刷方式在聚酰亞胺薄膜表面制成漆膜；

步驟二：鍍制氧化物陶瓷膜層：采用磁控濺射方法在步驟一所制備的漆膜表面制備氧化物陶瓷膜層。

本發明在制備完成的漆膜表面經磁控濺射工藝制備一層氧化物陶瓷膜層，該膜層組織致密，能夠阻擋顏料分子向外逃逸揮發；其次，該膜層對可見光透明度高，不影響漆膜的顏色外觀；另外，該膜層穩定性好，能耐受較高溫度并有良好的真空條件的使用性。因此，通過在漆膜表面鍍制一層該氧化物陶瓷膜層，能夠明顯減小漆膜顏料在高溫真空環境下揮發，拓展漆膜顏料的使用。

[0008]?本發明的有益效果是：

?本發明可適用于漆膜材料，特別適合用于空間環境中所用漆膜的防護。

?制備的氧化物陶瓷薄膜具有較高的透明度，不影響漆膜顏料的色彩要求。

?在漆膜表面鍍制一層氧化物陶瓷薄膜，減小了顏料的揮發，提高了其在高溫及真空環境下的應用性。

具體實施方式：

實施例1

?將紅色顏料混入有機硅涂料（如：甲基苯基有機硅涂料、環氧改性有機硅涂料、聚酯改性有機硅涂料），采用絲網印刷方式在聚酰亞胺薄膜表面制成紅色漆膜。

?采用磁控濺射方法在漆膜表面制備氧化物陶瓷膜層。濺射用靶為氧化銦錫陶瓷靶（靶材組分為90%In₂O₃＋10%SnO₂　質量分數），工作氣體為氬氣，反應氣體為氧氣，濺射功率500W，濺射壓力5×10^-1Pa，沉積時間為6min。

?將制有氧化物陶瓷膜層的漆膜放入真空室，保持真空室溫度170℃，真空度5×10^-3Pa，48h后取出漆膜，樣品色差優于3～4級。

實施例2

?將黃色顏料混入有機硅涂料（如：甲基苯基有機硅涂料、環氧改性有機硅涂料、聚酯改性有機硅涂料），采用絲網印刷方式在聚酰亞胺薄膜表面制成黃色漆膜。

?采用磁控濺射方法在漆膜表面制備氧化物陶瓷膜層。濺射用靶為鋅鋁合金靶（靶材組分為Al：2%?質量分數），工作氣體為氬氣，反應氣體為氧氣，濺射功率100W,?濺射壓力5×10^-1Pa，濺射時間10min。

?將制有氧化物陶瓷膜層的漆膜放入真空室，保持真空室溫度170℃，真空度5×10^-3Pa，48h后取出漆膜，樣品色差優于3～4級。