[發明專利]一種非制冷熱釋電線列焦平面及其制造方法有效
| 申請號: | 201210431102.X | 申請日: | 2012-11-01 |
| 公開(公告)號: | CN102928089A | 公開(公告)日: | 2013-02-13 |
| 發明(設計)人: | 馬學亮;邵秀梅;于月華;李言謹 | 申請(專利權)人: | 中國科學院上海技術物理研究所 |
| 主分類號: | G01J5/10 | 分類號: | G01J5/10;G01J3/02;B81C1/00;B81C3/00 |
| 代理公司: | 上海新天專利代理有限公司 31213 | 代理人: | 郭英 |
| 地址: | 200083 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 制冷 電線 平面 及其 制造 方法 | ||
1.一種非制冷熱釋電線列焦平面,它包括:熱釋電光敏芯片(1)、光敏元(2)、延伸電極(3)、鍵合引線(4)、讀出電路輸入端電極(5)、讀出電路芯片(6)、公共電極(7)、粘結膠(8)、熱釋電光敏芯片支撐襯底(9)、熱釋電線列襯底(10)和隔熱槽(11),其特征在于,焦平面結構為:自下而上依次為熱釋電線列襯底(10)和粘結膠(8);在熱釋電線列襯底左側三分之一處是熱釋電光敏芯片支撐襯底(9),通過粘結膠(8)和其上面的熱釋電光敏芯片(1)粘結在一起,熱釋電光敏芯片(1)左側懸空芯片寬度的二分之一,在熱釋電光敏芯片懸空處下表面淀積公共電極(7),上表面淀積鉻鎳吸收層作為光敏元(2),淀積鉻金金屬薄膜作為延伸電極(3);在熱釋電線列襯底右側三分之一處是讀出電路芯片(6),其上的讀出電路輸入端電極(5)通過鍵合引線(4)與熱釋電光敏芯片的延伸電極(3)聯結耦合;
所述的熱釋電光敏芯片(1)采用Mn-(1-x)Pb(Mg1/3Nb2/3)O3-xPbTiO3(Mn-PMNT)弛豫鐵電單晶;
所述的光敏元(2)為鉻鎳合金薄膜;
所述的延伸電極(3)為鉻金金屬薄膜;
所述的鍵合引線(4)為硅鋁絲;
所述的讀出電路輸入端電極(6)是鋁金屬薄膜;
所述的公共電極(7)為鉻金金屬薄膜;
所述的粘結膠(8)為環氧膠;
所述的熱釋電光敏芯片支撐襯底(9)采用白寶石;
所述的熱釋電線列襯底(10)為白寶石。
2.一種如權利要求1所述非制冷熱釋電線列焦平面的制造方法,其特征在于步驟如下:
1)Mn-PMNT晶片的兩個表面分別標記為A面和B面。
2)清洗<111>方向極化的Mn-PMNT晶片;
3)將Mn-PMNT晶片的A面用蠟粘貼在基板上,對Mn-PMNT晶片B面進行機械減薄和拋光;
4)將Mn-PMNT晶片從基板上加熱熔蠟取下,清洗Mn-PMNT晶片,在室溫下用氫氟酸緩沖液腐蝕Mn-PMNT晶片B表面;
5)清洗已腐蝕的Mn-PMNT晶片,在B面光刻圖形化;
6)在Mn-PMNT晶片B面淀積鉻鎳金屬薄膜,浮膠清洗;
7)在Mn-PMNT晶片B面光刻圖形化;
8)在Mn-PMNT晶片B面淀積鉻金層,制備延伸電極,浮膠清洗;
9)在Mn-PMNT晶片B面光刻圖形化;
10)在Mn-PMNT晶片B面淀積鉻鎳合金薄膜吸收層,浮膠清洗;
11)在Mn-PMNT晶片B面光刻圖形化,形成隔熱槽刻蝕掩模;
12)在Mn-PMNT晶片B面采用氬離子刻蝕的方法形成光敏元之間的隔熱槽;
13)將Mn-PMNT晶片從基板上熔蠟取下,清先Mn-PMNT晶片,將B面先貼在白寶石襯底上,再將帶有白寶石襯底的Mn-PMNT晶片貼在基板上,采用機械研磨的方法對Mn-PMNT晶片的A面進行減薄和拋光;
14)清洗,在Mn-PMNT晶片A面光刻圖形化;
15)在Mn-PMNT晶片A面制備鉻金層公共電極;
16)將帶襯底的Mn-PMNT晶片從基板上加熱熔蠟取下,劃片,清洗;
17)采用環氧膠粘結熱釋電光敏芯片和熱釋電光敏芯片襯底,形成自支撐光敏區懸空結構,在室溫下固化;
18)將光敏芯片和讀出電路引線鍵合,封裝管殼。
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