[發明專利]拋光研磨盤和拋光裝置

無效

• 申請號: 201210430732.5
• 申請日: 2012-11-01
• 公開（公告）號: CN102873646A
• 公開（公告）日: 2013-01-16
• 發明（設計）人: 李金昌
• 申請（專利權）人: 昆山市大金機械設備廠
• 主分類號: B24D13/14
• 分類號: B24D13/14;B24D3/04;B24B29/00
• 代理公司: 上海集信知識產權代理有限公司 31254
• 代理人: 吳明華

技術領域

本發明涉及一種拋光研磨盤和拋光裝置。

背景技術

拋光機是一種電動工具，拋光機由底座、拋盤、拋光織物、拋光罩及蓋等基本元件組成。電動機固定在底座上，固定拋光盤用的錐套通過螺釘與電動機軸相連。拋光織物通過套圈緊固在拋光盤上，電動機通過底座上的開關接通電源起動后，便可用手對試樣施加壓力在轉動的拋光盤上進行拋光。拋光過程中加入的拋光液可通過固定在底座上的塑料盤中的排水管流入置于拋光機旁的方盤內。拋光罩及蓋可防止灰土及其他雜物在機器不使用時落在拋光織物上而影響使用效果。

針對不同的應用，需要開發不同類型的拋光裝置。例如，在某些金屬拋光領域中，需要不斷地在拋光裝置的拋光表面和被拋光物體之間注入拋光漿料。因此，需要針對這種特殊的應用開發特別的拋光裝置。

發明內容

本發明的發明人結合多年的研發經驗，開發出了一種拋光研磨盤和拋光裝置。

根據本發明的一個方面，提供了一種拋光研磨盤，包括：

拋光表面；

與所述拋光表面垂直的側面；

位于所述拋光研磨盤中心處的耦合口，被設置成與一單獨的驅動轉軸相耦合；

沿所述拋光表面的外圈從所述拋光表面突出的凸環；以及

設置于所述凸環外表面上的拋光層。

較佳地，根據本發明的優選實施例，在上述的拋光研磨盤中，所述拋光層由多個拋光層塊構成，所述拋光層塊中的每一個從所述凸環的外圈邊沿延伸到所述凸環的內圈邊沿，且相鄰的兩個拋光層塊之間彼此相距一預定間隔。

較佳地，根據本發明的優選實施例，在上述的拋光研磨盤中，所述耦合口貫穿所述拋光研磨盤，且所述耦合口的截面形狀呈倒圓十字形。

較佳地，根據本發明的優選實施例，在上述的拋光研磨盤中，所述倒圓十字形的中心部分呈圓形。

較佳地，根據本發明的優選實施例，在上述的拋光研磨盤中，所述拋光層由選自包括Fe、Cu、Co、Ni、Cr、Ti、W、WC、Sn、CuSn、Ag和P的鐵基金屬和非鐵基金屬組中的一種金屬或至少兩種金屬以及選自金剛石顆粒、碳化物、硼酸、氮化物和硬金屬及陶瓷件的組的材料混合而成。

根據本發明的另一方面，提供了一種拋光裝置，包括：

上述的拋光研磨盤，繞驅動轉軸旋轉；

加熱裝置，適于加熱所述拋光研磨盤的拋光表面；以及

噴射裝置，向所述拋光研磨盤的外圓周噴射拋光顆粒和拋光液，其中所述拋光顆粒和所述拋光液在接觸到所述拋光研磨盤的外圓周之前形成拋光漿液。

根據本發明，可使用加熱裝置來加熱拋光研磨盤的拋光層，以便拋光漿液在與拋光表面接觸后輔助研磨時達到更佳的工作溫度。特別是，加熱到合適溫度的拋光漿液可以減少其中液泡，從而提高研磨的穩定性。

此外，在拋光研磨盤的凸環上設置具有間隔的拋光層塊可以幫助引導拋光漿液深入拋光表面的內部。

應當理解，本發明以上的一般性描述和以下的詳細描述都是示例性和說明性的，并且旨在為如權利要求所述的本發明提供進一步的解釋。

附圖說明

附圖主要是用于提供對本發明進一步的理解。附圖示出了本發明的實施例，并與本說明書一起起到解釋本發明原理的作用。附圖中：

圖1示意性地示出了本發明的拋光研磨盤的基本結構。

圖2示意性地示出了本發明的拋光裝置的結構。

具體實施方式

以下結合附圖詳細討論本發明的多個實施例。

圖1示意性地示出了本發明的拋光研磨盤的基本結構。如圖所示，本發明的拋光研磨盤100主要包括：拋光表面101、與所述拋光表面101垂直的側面102、位于所述拋光研磨盤100中心處的耦合口103，其中該耦合口103被設置成與一單獨的驅動轉軸（未圖示）相耦合、沿所述拋光表面101的外圈從所述拋光表面101突出的凸環104；以及設置于所述凸環104外表面上的拋光層105。

較佳地，在圖1所示的優選實施例中，在上述的拋光研磨盤100中，所述拋光層105由多個拋光層塊構成，所述拋光層塊中的每一個從所述凸環104的外圈邊沿延伸到所述凸環104的內圈邊沿，且相鄰的兩個拋光層塊之間彼此相距一預定間隔。

此外，優選地，所述耦合口103貫穿所述拋光研磨盤101，且所述耦合口103的截面形狀呈倒圓十字形。特別是，在圖1所示的實施例中，所述倒圓十字形的中心部分呈圓形。