[發(fā)明專利]中性色的雙銀復(fù)合結(jié)構(gòu)低輻射鍍膜玻璃及工藝

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210430335.8
• 申請(qǐng)日: 2012-11-01
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102898041A
• 公開(kāi)（公告）日: 2013-01-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳波;吳斌;孫大海;葛劍君;董華明
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海耀皮玻璃集團(tuán)股份有限公司;上海耀皮工程玻璃有限公司
• 主分類號(hào): C03C17/36
• 分類號(hào): C03C17/36;B32B17/06;B32B15/04;B32B18/00;B32B9/04;B32B33/00
• 代理公司: 上海東亞專利商標(biāo)代理有限公司 31208
• 代理人: 羅習(xí)群;劉瑩

1.一種中性色的雙銀復(fù)合結(jié)構(gòu)低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：在玻璃基板鍍制包含有復(fù)合吸收層在內(nèi)的多層膜層的結(jié)構(gòu)，各膜層結(jié)構(gòu)，自玻璃基板向外依次為：

電介質(zhì)層（1）、復(fù)合吸收層（1）、銅合金層（1）、銀層（1）、保護(hù)層（1）、復(fù)合電介質(zhì)層（1）、銀層（2）、保護(hù)層（2）、電介質(zhì)層（2）；

其中：電介質(zhì)層（1）為SiNx，膜層厚度為???25nm～50nm;

??????復(fù)合吸收層（1）為在NiCr鍍層上再鍍陶瓷ZnOx層，總膜層厚度為12nm~14nm;

銅鋁合金層（1）為CuAlNx層，膜層厚度為2~10nm；

銀層（1）、（2）為Ag，膜層厚度為????5nm~15nm;

保護(hù)層（1）、（2）為NiCr，膜層厚度為??0nm~14nm;

??????復(fù)合電介質(zhì)層（1）為在ZnO鍍層上再依次鍍SnO₂層、ZnO層結(jié)構(gòu)，總膜層厚度為?50nm~110nm;

_????????電介質(zhì)層（2）為Si₃N₄，膜層厚度為?35nm~50nm。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的中性色的雙銀復(fù)合結(jié)構(gòu)低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：所述銅鋁合金層，在該多層復(fù)合膜層結(jié)構(gòu)中，其位置位于電介質(zhì)層（1）和（2）之間的任何位置。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的中性色的雙銀復(fù)合結(jié)構(gòu)低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：所述銅鋁合金層，為鍍制的氮化銅鋁合金。

4.按權(quán)利要求1所述中性色的雙銀復(fù)合結(jié)構(gòu)低輻射鍍膜玻璃的鍍制工藝，各膜層的鍍制工藝是：

電介質(zhì)層（1），通過(guò)交流陰極的錫靶在氧氬氛圍中濺射；

復(fù)合吸收層（1），通過(guò)直流平靶在氬氣氛圍中濺射鎳鉻合金，其中Ni:Cr=80:20，并在鎳鉻合金上鍍有由交流陰極的ZnOx靶濺射的ZnOx層，其氬氧比例保持在20：1.5；

銅鋁合金層（1），通過(guò)直流銅鋁合金平靶在氬氮氛圍中濺射氮化銅鋁合金層；

銀層（1）、（2），通過(guò)直流平靶在氬氣氛圍中濺射；

保護(hù)層（1）、（2），通過(guò)直流平靶在氬氣氛圍中濺射鎳鉻合金，其中Ni:Cr=80:20；

復(fù)合電介質(zhì)層（1），通過(guò)交流陰極的鋅靶、錫靶、鋅靶在氧氬氛圍中濺射；

??電介質(zhì)層（2），通過(guò)交流陰極的硅鋁合金靶在氮?dú)宸諊袨R射，???

??硅鋁合金之比為Si:Al=90:10。