[發明專利]發光裝置無效
| 申請號: | 201210429634.X | 申請日: | 2012-11-01 |
| 公開(公告)號: | CN103682067A | 公開(公告)日: | 2014-03-26 |
| 發明(設計)人: | 姜崇義;羅偉誠;彭永智 | 申請(專利權)人: | 華新麗華股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L33/62 | 分類號: | H01L33/62;H01L33/54 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人: | 陸勍 |
| 地址: | 中國臺灣桃園縣*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 發光 裝置 | ||
技術領域
本發明是有關于一種發光裝置,且特別是有關于一種具有限流結構的發光裝置。
背景技術
發光二極管元件經由接合工藝(bonding)接合于一基板的接墊上。然而,在接合工藝中,常會發生接合劑溢流出接合區外的現象。更嚴重者,接合劑溢流至鄰近接墊而污染到此鄰近接墊。
發明內容
本發明有關于一種發光裝置,可改善溢流的接合劑污染到鄰近接墊的問題。
根據本發明的一實施例,提出一種發光裝置。發光裝置包括一基板、一第一接墊、一發光二極管及一限流結構。第一接墊形成于基板上。發光二極管設置于基板上并電性連接第一接墊。限流結構鄰接第一接墊而形成于基板上,或形成于第一接墊的邊緣。
為了對本發明的上述及其他方面有更佳的了解,下文特舉實施例,并配合附圖,作詳細說明如下:
附圖說明
圖1繪示依照本發明一實施例的發光裝置的剖視圖。
圖2繪示圖1的基板、第一接墊及第二接墊的俯視圖。
圖3繪示依照本發明另一實施例的基板、第一接墊及第二接墊的俯視圖。
圖4繪示依照本發明另一實施例的基板、第一接墊及第二接墊的俯視圖。
圖5繪示依照本發明另一實施例的基板、第一接墊及第二接墊的俯視圖。
圖6繪示發光二極管接合至圖5的第一接墊及第二接墊的剖視圖。
圖7繪示圖6的第二接墊、接合劑及限流結構的局部立體圖。
圖8繪示依照本發明另一實施例的基板、第一接墊及第二接墊的俯視圖。
圖9繪示依照本發明另一實施例的基板、第一接墊及第二接墊的俯視圖。
主要元件符號說明:
100:發光裝置
110:基板
110u:上表面
110b:下表面
111:凹陷部
120:第一接墊
120s1:第一側面
120s2:第三側面
130:第二接墊
130s1:第二側面
130s2:第四側面
140:發光二極管
150:第一限流結構
250:第二限流結構
160:接合劑
具體實施方式
請參照圖1,其繪示依照本發明一實施例的發光裝置的剖視圖。發光裝置100包括基板110、第一接墊120、第二接墊130、發光二極管140及第一限流結構150。
基板110具有相對的上表面110u與下表面110b。基板110例如是金屬基板、陶瓷基板、單層/多層電路板或其它合適基板。
第一接墊120形成于基板110的上表面110u上,且具有第一側面120s1。本實施例中,第一接墊120的橫剖面形狀矩形,然亦可為圓形、橢圓形或多邊形,其中多邊形例如是三角形、梯形或其它多邊形。
第二接墊130具有第二側面130s1,其與第一接墊120的第一側面120s1相面對。第二接墊130的橫剖面形狀可相似于第一接墊120,容此不再贅述。
發光二極管140通過接合劑160設于基板110上并電性連接第一接墊120及第二接墊130。
第一限流結構150例如是凹陷結構,其鄰接第一接墊120及第二接墊130而形成于基板110上。舉例來說,第一限流結構150鄰接第一接墊120及第二接墊130而形成于基板110上,并從上表面110u往下表面110b的方向延伸一距離,此距離小于基板的厚度,即第一限流結構150未貫穿基板110。
由于第一限流結構150位于第一側面120s1與第二側面130s1之間,故當發光二極管140通過接合劑160與基板110的第一接墊120及第二接墊130接合后,多余接合劑160會溢流至第一限流結構150內,而避免多余的接合劑160溢流至鄰近的接墊而污染到鄰近的接墊。此外,經由設計第一限流結構150的尺寸,可獲得預期的容納溢流接合劑160的空間。
請參照圖2,其繪示圖1的基板、第一接墊及第二接墊的俯視圖。第一限流結構150僅鄰接于第一接墊120的第一側面120s1及第二接墊130的第二側面130s1,然此非用以限制本發明實施例,以下舉例說明。
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