[發明專利]一種基于先驗相位結構知識的SAR兩維自聚焦方法

有效

• 申請號: 201210429401.X
• 申請日: 2012-11-01
• 公開（公告）號: CN103792534A
• 公開（公告）日: 2014-05-14
• 發明（設計）人: 毛新華;朱岱寅;丁嵐
• 申請（專利權）人: 南京航空航天大學
• 主分類號: G01S13/90
• 分類號: G01S13/90;G01S7/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.式(1)和式(2)所示的極坐標格式算法處理后殘留兩維相位誤差的解析結構公式：

φ(t‾,f‾r)=f0+f‾rf0φ0(f0f0+f‾rt‾)---(1)]]>

其中，表示殘留兩維相位誤差，表示方位相位誤差，表示殘留距離徙動，和分別表示極坐標格式轉換后的方位時間和距離頻率變量，c為電磁波傳播速度，f₀為發射信號載頻，為孔徑中心時刻的雷達下視角。

2.一種基于上述先驗相位誤差結構信息的兩維自聚焦方法，該方法利用式(1)和(2)所示的公式，將兩維相位誤差的估計問題轉化為方位相位誤差或者殘留距離徙動等一維參數的估計。

3.權利要求2所述的兩維自聚焦方法，包含如下步驟：

(1)基于殘留距離徙動估計的兩維相位誤差粗補償；

(2)基于方位相位誤差估計的兩維相位誤差精補償。

4.權利要求3所述的兩維自聚焦方法，其中步驟(1)基于殘留距離徙動估計的兩維相位誤差粗補償通過如下方法進行：首先通過子孔徑圖像相關得到殘留距離徙動的估計值，假設為然后利用式(2)直接計算得到兩維相位誤差的估計值，即

最后，對極坐標格式算法處理得到的SAR圖像在域，補償上述兩維相位誤差。

5.權利要求3所述的兩維自聚焦方法，其中步驟(2)基于方位相位誤差估計的兩維相位誤差精補償通過如下方法進行：針對粗補償后的數據，首先利用常規一維自聚焦方法估計方位相位誤差，假設為然后利用式(1)由該方位相位誤差直接計算得到兩維相位誤差，即

φ^(t‾,f‾r)=f0+f‾rf0φ^0(f0f0+f‾rt‾)]]>

最后，針對上一步粗補償后的數據在域補償上述兩維相位誤差。