[發明專利]光源系統及相關投影系統

有效

• 申請號: 201210428520.3
• 申請日: 2012-10-31
• 公開（公告）號: CN103792768A
• 公開（公告）日: 2014-05-14
• 發明（設計）人: 楊毅
• 申請（專利權）人: 深圳市繹立銳光科技開發有限公司
• 主分類號: G03B21/20
• 分類號: G03B21/20;G03B21/00;F21V9/10;F21V7/22
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種光源系統，包括用于產生激發光的激發光源和波長轉換裝置，該激發光入射于該波長轉換裝置，其特征在于，該波長轉換裝置包括：

基底，包括第一表面，該基底的第一表面上形成有微結構陣列，該微結構陣列包括微結構單元，其中各微結構單元呈凹坑狀，且各凹坑內設置有波長轉換材料；

任意相鄰的兩個微結構單元之間的間距大于零，并且第一表面上各微結構單元之間均設有散射反射層；

所述基底的第一表面面向所述入射的激發光，所述波長轉換裝置還包括反射層，位于所述波長轉換材料背向所述激發光入射的一側；所述激發光在第一表面上形成的光斑覆蓋一個微結構單元的至少部分，以對該微結構單元內的波長轉換材料進行激發而產生受激光，該光斑還覆蓋該微結構單元與相鄰的一個微結構單元之間的散射反射層的至少部分，以使所述激發光經該散射反射層散射反射后與該受激光混合并從第一表面出射。

2.根據權利要求1所述的光源系統，其特征在于，所述微結構陣列中的各微結構單元均填滿波長轉換材料。

3.根據權利要求1所述的光源系統，其特征在于，所述微結構陣列中的各微結構單元內設置有波長轉換層，該波長轉換層的表面的起伏與微結構陣列中各微結構單元的表面的起伏一致。

4.根據權利要求3所述的光源系統，其特征在于，所述波長轉換層的平均厚度小于或者等于所述微結構陣列中相鄰的兩個微結構單元的平均距離。

5.根據權利要求1所述的光源系統，所述微結構陣列中相鄰的兩個微結構單元的平均距離小于或者等于所述激發光的光斑所在的外接圓的直徑的1/4，其中該激發光的光斑指的是在波長轉換裝置接收激發光的表面上，沿平行于波長轉換裝置的方向上對激發光所截到的光斑。

6.根據權利要求5所述的光源系統，其特征在于，

所述微結構陣列中相鄰的兩個微結構單元的平均距離小于或者等于所述激發光的光斑所在的外接圓的直徑的1/10。

7.根據權利要求1所述的光源系統，其特征在于，所述反射層設置在所述微結構陣列中各微結構單元的表面上，所述波長轉換材料設置于該反射層上。

8.根據權利要求1所述的光源系統，其特征在于，

所述基底包括至少兩個區域，其中該兩個區域上各微結構體的表面積和散射反射面的面積的比例不同；

所述光源系統還包括驅動裝置和控制裝置；

該控制裝置用于發送控制信號至該驅動裝置；

該驅動裝置用于獲取來自該控制裝置的控制信號，該控制信號包括驅動方式，并根據該驅動方式對所述波長轉換裝置進行驅動，使得所述激發光在該波長轉換裝置上形成的光斑的運動路徑轉變到預定區域上。

9.根據權利要求8所述的光源系統，其特征在于，所述光源系統還包括：

探測裝置，用于對所述光源系統出射的激發光與受激光的混合光的色坐標進行探測，并發送該色坐標至控制裝置；

控制裝置，用于在所述探測裝置發送的色坐標與預定色坐標之差超出預定閾值時，向所述驅動裝置發送所述控制信號。

10.一種投影系統，包括如權利要求1至9任一項所述的光源系統。