[發明專利]抗強洗與煮沸膜系

有效

• 申請號: 201210428509.7
• 申請日: 2012-11-01
• 公開（公告）號: CN102896827A
• 公開（公告）日: 2013-01-30
• 發明（設計）人: 田儒平;雷洪濤;易燈良;李成
• 申請（專利權）人: 福建福光光電科技有限公司
• 主分類號: B32B9/04
• 分類號: B32B9/04
• 代理公司: 福州元創專利商標代理有限公司 35100
• 代理人: 蔡學俊

技術領域

本發明涉及一種抗強洗與煮沸膜系，主要應用于光學薄膜加工。

背景技術

光學薄膜已廣泛用于光學和光電子技術領域，制造各種光學儀器。主要應用在光在傳播路徑過程中，附著在光學器件表面的厚度薄而均勻的介質膜層，通過分層介質膜層時的反射、折射和偏振等特性，以達到我們想要的在某一或是多個波段范圍內的光的全部透過或光的全部反射或是光的偏振分離等各特殊形態的光。

目前，光學膜系加工的產品，經3次以上的洗凈或是5分鐘的煮沸膜就會脫落，此現象嚴重影響品質；舊膜系結構為H4與Al₂O₃組成的層狀膜系，其中Al₂O₃為兩性氧化物，易與堿發生化學反應，而洗劑的PH值約12，故用此結構加工的產品經過多次洗凈時，Al₂O₃層易被洗劑腐蝕從而出現脫膜。同時Al₂O₃膜相對較松軟，其抗煮沸與熱沖擊能力較弱，特別是高溫時更易出現邊緣掉膜。

發明內容

鑒于現有技術的不足，本發明的目的在于提供一種與傳統結構、材質不同的抗強洗與煮沸膜系。

為了實現上述目的，本發明的技術方案是：一種抗強洗與煮沸膜系，包括從上而下依次設置的七層膜，所述第一層、第三層、第五層和第七層為MgF₂薄膜層，所述第二層、第四層和第六層為H4鍍膜層。

進一步的，所述第一層厚度為16.25nm，所述第二層厚度為35.43nm，所述第三層厚度為21.34nm，所述第四層厚度為76.9nm，所述第五層厚度為8nm，所述第六層厚度為47.76nm，所述第七層厚度為95.44nm。

進一步的，所述七層膜通過熱處理復合為一體。

本發明具有以下優點：采用多層MgF₂薄膜層和多層H4鍍膜層復合一體結構，能夠在保證反射率的情況下提高其抗強洗性能和抗煮沸性能，其中MgF₂為氟化物，化學性穩定，受酸堿的影響小，穩定性極強，特別是溫度在280度以上時，它與H4的結合層致密堅硬，抗擦拭與煮沸能力明顯比Al₂O₃提升2倍以上。

附圖說明

圖1為本發明實施例的構造示意圖。

圖中，1-第一層，2-第二層，3-第三層，4-第四層，5-第五層，6-第六層，7-第七層。

具體實施方式

下面結合附圖和實施例對本發明做進一步的闡述。

傳統舊膜系結構如表1所示。

表1