[發明專利]基于雙能點多層膜的軟X射線掠入射光學系統及其應用無效
| 申請號： | 201210425897.3 | 申請日： | 2012-10-30 |
| 公開（公告）號： | CN102930918A | 公開（公告）日： | 2013-02-13 |
| 發明（設計）人： | 伊圣振;穆寶忠;蔣勵;王占山;王新 | 申請（專利權）人： | 同濟大學 |
| 主分類號： | G21K1/06 | 分類號： | G21K1/06 |
| 代理公司： | 上?？剖⒅R產權代理有限公司 31225 | 代理人： | 葉敏華 |
| 地址： | 200092 *** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 基于 雙能點 多層 射線 入射 光學系統 及其 應用 | ||
1.一種基于雙能點多層膜的軟X射線掠入射光學系統，其特征在于，該光學系統包括物鏡，所述的物鏡上鍍設雙能點多層膜，所述的雙能點多層膜由上方膜系和下方膜系構成，所述的上方膜系針對工作能點軟X射線反射，所述的下方膜系針對8keV能點X射線反射。
2.根據權利要求1所述的一種基于雙能點多層膜的軟X射線掠入射光學系統，其特征在于，所述的雙能點多層膜為周期多層膜、非周期多層膜或梯度多層膜。
3.根據權利要求1所述的一種基于雙能點多層膜的軟X射線掠入射光學系統，其特征在于，所述的雙能點多層膜由W和B4C材料制成。
4.根據權利要求1所述的一種基于雙能點多層膜的軟X射線掠入射光學系統，其特征在于，所述的軟X射線的工作能點為1.4keV、2.5keV或4.75keV。
5.根據權利要求1所述的一種基于雙能點多層膜的軟X射線掠入射光學系統，其特征在于，所述的8keV能點X射線由Cu靶X射線管獲得。
6.根據權利要求1所述的一種基于雙能點多層膜的軟X射線掠入射光學系統，其特征在于，所述的軟X射線掠入射光學系統，是基于多層膜對掠入射X射線的Bragg衍射或全外反射原理工作的系統。
7.根據權利要求1所述的一種基于雙能點多層膜的軟X射線掠入射光學系統，其特征在于，所述的光學系統為KB顯微系統、KBA顯微系統、Wolter顯微系統、KB聚焦系統、KBA聚焦系統或Wolter聚焦系統。
8.一種如權利要求1所述的基于雙能點多層膜的軟X射線掠入射光學系統的應用，其特征在于，該應用包括以下步驟：
首先在實驗室大氣環境下利用Cu靶X射線管尋找到8keV能點X射線的最佳物點，此最佳物點與軟X射線掠入射光學系統的最佳物點相同，然后切換到強激光裝置，用于實際軟X射線工作能點的ICF物理實驗。
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