[發明專利]液晶顯示裝置及其制造方法

有效

• 申請號: 201210423008.X
• 申請日: 2012-10-24
• 公開（公告）號: CN103076701A
• 公開（公告）日: 2013-05-01
• 發明（設計）人: 槍田浩幸;扇一公俊;栗山英樹
• 申請（專利權）人: 株式會社日本顯示器東
• 主分類號: G02F1/1343
• 分類號: G02F1/1343;G02F1/1333;G03F7/00;G03F1/80
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 楊宏軍

1.一種液晶顯示裝置，包括：

基板；

形成在所述基板上的第一透明電極；

以置于所述第一透明電極的端部的方式形成在所述基板上的第一絕緣層；

配置在所述第一絕緣層之下的柵電極；

形成在所述第一絕緣層之上的半導體層；

形成為從所述半導體層上到所述第一透明電極上并與所述第一透明電極電連接的第一布線；

相對于所述第一布線隔開間隔地從所述半導體層上引出的第二布線；

覆蓋所述第一布線、所述第二布線、所述半導體層及所述第一透明電極的第二絕緣層；

形成在所述第二絕緣層上的第二透明電極；以及

配置在所述第二透明電極之上的液晶層，

該液晶顯示裝置的特征在于，

借助在所述第一透明電極和所述第二透明電極之間施加的電壓，在所述基板的面方向施加電場，從而使所述液晶層的液晶分子在與所述基板平行的面內旋轉。

2.根據權利要求1所述的液晶顯示裝置，其特征在于，

所述第一絕緣層的端部在所述第一透明電極的所述端部上以朝向前端而厚度變薄的方式形成，且具有以銳角的傾斜角傾斜的傾斜面，

在所述傾斜面上形成所述第一布線。

3.一種液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于，包括：

包含使用了通過第一光刻而形成的第一抗蝕層的蝕刻，由形成在基板上的第一透明導電膜及形成在所述第一透明導電膜上的金屬膜形成第一透明電極及柵電極的工序；

包含使用了通過第二光刻而形成的第二抗蝕層的蝕刻，在所述基板上形成置于所述第一透明電極的端部并且在之上具有半導體層的第一絕緣層的工序；

包含使用了通過第三光刻而形成的第三抗蝕層的蝕刻，形成以從所述半導體層上到所述第一透明電極上的方式配置并與所述第一透明電極電連接的第一布線及相對于所述第一布線隔開間隔地從所述半導體層上引出的第二布線的工序；

包含使用了通過第四光刻而形成的第四抗蝕層的蝕刻，形成覆蓋所述第一布線、所述第二布線、所述半導體層及所述第一透明電極的第二絕緣層的工序；

包含使用了通過第五光刻而形成的第五抗蝕層的蝕刻，在所述第二絕緣層上形成第二透明電極的工序；以及

在所述第二透明電極之上配置含有液晶分子的液晶層的工序，借助在所述第一透明電極和所述第二透明電極之間施加的電壓而在所述基板的面方向施加電場從而該液晶分子在與所述基板平行的面內旋轉。

4.根據權利要求3所述的液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于，

在形成所述第一透明電極及所述柵電極的工序中，

所述第一抗蝕層包括厚度不同的第一厚層部及第一薄層部，

將所述第一厚層部配置在所述柵電極的形成區域，

將所述第一薄層部配置在所述第一透明電極的形成區域，

將所述第一厚層部及所述第一薄層部作為掩模來蝕刻所述第一金屬膜，在所述第一厚層部之下形成所述柵電極，在所述第一薄層部之下以與所述第一透明電極的所述形成區域相對應的形狀留下所述第一金屬膜，

通過使所述第一厚層部及所述第一薄層部變薄的處理，留下所述第一厚層部，除去所述第一薄層部，在所述第一透明電極的所述形成區域露出所述第一金屬膜，

將露出的所述第一金屬膜及所述第一厚層部作為掩模來蝕刻所述第一透明導電膜，從而在露出的所述第一金屬膜之下形成所述第一透明電極，

將所述第一厚層部作為掩模來蝕刻并除去露出的所述第一金屬膜，

剝離所述第一抗蝕層。