[發明專利]一種狹縫光柵及制備方法、顯示裝置

有效

• 申請號: 201210422463.8
• 申請日: 2012-10-29
• 公開（公告）號: CN102937744A
• 公開（公告）日: 2013-02-20
• 發明（設計）人: 吳坤;武延兵
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G02B26/00
• 分類號: G02B26/00;G02B27/22
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

1.一種狹縫光柵，其特征在于，包括：相對設置的第一基板和第二基板，設置在兩基板四周的外圍腔壁以形成密閉空腔，以及填充于所述密閉空腔中的親水流體和疏水流體，其中所述親水流體為透明物質，所述疏水流體為不透明物質；

還包括：設置在所述第一基板上的第一電極；設置在所述第二基板上的第二電極，設置在所述第二電極上的疏水層，以及設置在所述疏水層上的多個相互平行的阻隔墻，所述阻隔墻包括透明阻擋條，且在不加電的情況下，所述疏水流體的厚度不高于所述透明阻擋條的高度，在加電的情況下，所述疏水流體聚集區域的最高處不高于所述阻隔墻的最高處。

2.根據權利要求1所述的狹縫光柵，其特征在于，所述阻隔墻還包括內部腔壁，所述內部腔壁與所述透明阻擋條接觸。

3.根據權利要求2所述的狹縫光柵，其特征在于，各內部腔壁位于與其接觸的所述透明阻擋條的同一側。

4.根據權利要求3所述的狹縫光柵，其特征在于，在所述內部腔壁的背對與其接觸的所述透明阻擋條的一側面處，所述疏水層形成有凹槽。

5.根據權利要求3所述的狹縫光柵，其特征在于，相互平行的所述外圍腔壁及所述內部腔壁中任意相鄰的兩個腔壁的間隔相等。

6.根據權利要求1-5任一項所述的狹縫光柵，其特征在于，由所述第二基板的中間位置到兩邊邊緣，各個透明阻擋條的寬度依次變窄。

7.根據權利要求1所述的狹縫光柵，其特征在于，所述阻隔墻將所述密閉空腔分割為多個空腔單元；所述第二電極包括多個間隔設置的第二電極條，所述第二電極條與所述空腔單元一一對應，且相鄰所述第二電極條之間的間隔與加電情況下所述疏水流體的聚集區域相對應。

8.一種顯示裝置，包括顯示器件單元和狹縫光柵，其特征在于，所述狹縫光柵為權利要求1至7任一項所述的狹縫光柵。

9.根據權利要求8所述的顯示裝置，其特征在于，所述顯示器件單元包括多個像素，所述像素包括顯示區和非顯示區；

若所述阻隔墻均為透明，則所述阻隔墻對應所述顯示區的部分，且其一側面與顯示區和非顯示區的分界處對齊；或者，

若所述阻隔墻包括不透明部分，則所述阻隔墻的透明部分對應所述顯示區的部分，且所述不透明部分和透明部分的分界面與顯示區和非顯示區的分界處對齊。

10.根據權利要求8或9所述的顯示裝置，其特征在于，當所述疏水層上形成有凹槽時，所述凹槽對應于所述非顯示區，且其寬度不超過對應的所述非顯示區的寬度。

11.一種狹縫光柵的制備方法，其特征在于，包括：

在第一基板上形成第一電極；

在第二基板上形成第二電極；

在所述第二電極上形成疏水層；

在所述疏水層上形成多個相互平行的阻隔墻，所述阻隔墻包括透明阻擋條；

并在所述第二基板或第一基板四周形成外圍腔壁；

將所述第一基板和第二基板對盒，使得所述外圍腔壁與所述第一基板接觸以形成密閉空腔；其中，在所述密閉空腔中注有疏水流體和親水流體，所述親水流體為透明物質，所述疏水流體為不透明物質；且在不加電的情況下，所述疏水流體的厚度不高于所述透明阻擋條的高度，在加電的情況下，所述疏水流體聚集區域的最高處不高于所述阻隔墻的最高處。

12.根據權利要求11所述的方法，其特征在于，在所述第二電極上形成疏水層包括：

在所述第二電極上形成疏水層，且在所述內部腔壁的背對與其接觸的所述透明阻擋條的一側面處，所述疏水層形成有凹槽。

13.根據權利要求11或12所述的方法，其特征在于，所述在所述疏水層上形成多個相互平行的阻隔墻包括：

在所述疏水層上形成多個相互平行的所述透明阻擋條以及與所述透明阻擋條接觸的內部腔壁。

14.根據權利要求11所述的方法，其特征在于，在第二基板上形成第二電極包括：

通過構圖工藝在所述第二基板上形成第二電極，所述第二電極包括多個間隔設置的第二電極條，所述第二電極條與空腔單元一一對應，且相鄰所述第二電極條之間的間隔與加電情況下所述疏水流體的聚集區域相對應；其中，所述阻隔墻將所述密閉空腔分割為多個所述空腔單元。