[發明專利]一種鍍Al-CoNiCrAlY高溫抗氧化復合涂層及其制備方法與應用無效
| 申請號: | 201210421493.7 | 申請日: | 2012-10-29 |
| 公開(公告)號: | CN102888605A | 公開(公告)日: | 2013-01-23 |
| 發明(設計)人: | 陶順衍;姜杰;趙華玉;周霞明;丁傳賢 | 申請(專利權)人: | 中國科學院上海硅酸鹽研究所 |
| 主分類號: | C23C28/02 | 分類號: | C23C28/02 |
| 代理公司: | 上海瀚橋專利代理事務所(普通合伙) 31261 | 代理人: | 曹芳玲;鄭優麗 |
| 地址: | 200050 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 al conicraly 高溫 氧化 復合 涂層 及其 制備 方法 應用 | ||
1.一種鍍Al-CoNiCrAlY高溫抗氧化復合涂層,其特征在于,包括CoNiCrAlY涂層,以及沉積在所述CoNiCrAlY涂層的Al薄膜,其中所述Al薄膜與CoNiCrAlY涂層的厚度比為1:(30~150)。
2.根據權利要求1所述的鍍Al-CoNiCrAlY高溫抗氧化復合涂層,其特征在于,所述Al薄膜的厚度為0.8~1.5?μm。
3.根據權利要求1或2所述的鍍Al-CoNiCrAlY高溫抗氧化復合涂層,其特征在于,所述CoNiCrAlY涂層的厚度為50~120?μm。
4.一種權利要求1~3中任一項所述的鍍Al-CoNiCrAlY復合涂層的制備方法,其特征在于,包括:
采用真空等離子體噴涂工藝將CoNiCrAlY合金粉末噴涂到經噴砂處理并洗凈的高溫合金基材的表面得到CoNiCrAlY涂層;以及
利用磁過濾陰極弧沉積技術在所述CoNiCrAlY涂層表面沉積Al薄膜。
5.根據權利要求4所述的制備方法,其特征在于,所述真空等離子體噴涂工藝參數為:噴槍類型為F4-VB,等離子氣體氬氣的流量為45-55?slpm,等離子氣體氫氣的流量為7-12?slpm,噴涂電流為650-700?A,噴涂距離為250-300?mm,噴涂室壓力為75-125?mBar,送粉速率為15-20?rpm,送粉載氣氬氣的流量為2.0-2.5?slpm。
6.根據權利要求4或5所述的制備方法,其特征在于,所述磁過濾陰極弧沉積工藝參數為:襯底負偏壓為200V,弧電流為60A,工作室壓力為7.4×10-4Pa,沉積時間為1h。
7.根據權利要求4~6中任一項所述的制備方法,所述CoNiCrAlY合金粉末為氣霧化的Amdry?995?CoNiCrAlY合金粉末。
8.根據權利要求4~7中任一項所述的制備方法,所述高溫合金基材為GH3128高溫合金基材。
9.一種根據權利要求1~3中任一項所述的方法制備的鍍Al-CoNiCrAlY高溫抗氧化復合涂層在制備熱障涂層中的應用。
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