[發(fā)明專(zhuān)利]一種CoNiCrAlY涂層及其制備方法和應(yīng)用有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210421408.7 | 申請(qǐng)日: | 2012-10-29 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102888583A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-01-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陶順衍;姜杰;趙華玉;周霞明;丁傳賢 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院上海硅酸鹽研究所 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C23C10/00 | 分類(lèi)號(hào): | C23C10/00;C23C14/48;C23C4/06;C23C4/18 |
| 代理公司: | 上海瀚橋?qū)@硎聞?wù)所(普通合伙) 31261 | 代理人: | 曹芳玲;鄭優(yōu)麗 |
| 地址: | 200050 *** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 conicraly 涂層 及其 制備 方法 應(yīng)用 | ||
1.一種CoNiCrAlY涂層,其特征在于,所述CoNiCrAlY涂層的表面利用離子注入技術(shù)注入Nb離子。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的CoNiCrAlY涂層,其特征在于,所述Nb離子的注入量為1017-1018?atoms/cm2。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的CoNiCrAlY涂層,其特征在于,所述CoNiCrAlY涂層的厚度為50-120?μm。
4.一種權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的CoNiCrAlY涂層的制備方法,其特征在于,包括:采用真空等離子體噴涂工藝將CoNiCrAlY合金粉末噴涂到經(jīng)噴砂處理并洗凈的高溫合金基材的表面得到噴涂態(tài)CoNiCrAlY涂層;以及
利用離子注入技術(shù)在所述噴涂態(tài)CoNiCrAlY涂層的表面注入Nb離子。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備方法,其特征在于,所述真空等離子體噴涂工藝參數(shù)為:噴槍類(lèi)型為F4-VB,等離子氣體氬氣的流量為45-55?slpm,等離子氣體氫氣的流量為7-12?slpm,噴涂電流為650-700?A,噴涂距離為250-300?mm,噴涂室壓力為75-125?mBar,送粉速率為15-20?rpm,送粉載氣氬氣的流量為2.0-2.5?slpm。
6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的制備方法,其特征在于,所述離子注入工藝參數(shù)為:脈寬調(diào)節(jié)時(shí)間為450?μs,管燈絲電流為79?A,一柵負(fù)電壓為0.74?kV,一柵正電壓為362?V,二柵正電壓為1.29?kV,負(fù)高壓電壓為30.4?kV,負(fù)高壓電流為4.6?mA,本底真空度為4.5×10-3?Pa,注入時(shí)間為3600?s。
7.根據(jù)權(quán)利要求4~6中任一項(xiàng)所述的制備方法,所述CoNiCrAlY合金粉末為氣霧化的Amdry?995?CoNiCrAlY合金粉末。
8.根據(jù)權(quán)利要求4~7中任一項(xiàng)所述的制備方法,所述高溫合金基材為GH3128高溫合金基材。
9.一種根據(jù)權(quán)利要求1~3中任一項(xiàng)所述的CoNiCrAlY涂層在制備熱障涂層中的應(yīng)用。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C10-00 金屬材料表面中僅滲入金屬元素或硅的固滲
C23C10-02 .被覆材料的預(yù)處理
C23C10-04 .局部表面上的擴(kuò)散處理,例如使用掩蔽物
C23C10-06 .使用氣體的
C23C10-18 .使用液體,例如鹽浴、懸浮液的
C23C10-28 .使用固體,例如粉末、膏劑的
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