[發明專利]一種電容式觸控面板

無效

• 申請號: 201210419584.7
• 申請日: 2012-10-29
• 公開（公告）號: CN102929462A
• 公開（公告）日: 2013-02-13
• 發明（設計）人: 王科磊;楊松義;張記寧;潘紹明;楊勝利
• 申請（專利權）人: 煙臺正海科技有限公司
• 主分類號: G06F3/044
• 分類號: G06F3/044
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及一種電容式觸控面板，屬觸控面板領域。

背景技術

電容式觸控面板一般由IC芯片、柔性線路板、玻璃蓋板和傳感器等四部分組成。其中傳感器是電容式觸控面板的核心部件，由驅動電極和感應電極組成。按照傳感器基材可分為玻璃結構和PET膜結構；按照傳感器制造工藝可分為黃光工藝和絲網印刷工藝。

電容式觸控面板的制造需要用到昂貴的氧化銦錫制作視窗區的透明導電線路；用鉬鋁鉬、銀或者銅合金制作邊框區域線路材料。氧化銦錫中的“銦”是稀土元素，隨著國際稀土價格日漸升高，氧化銦錫透明導電膜的制作成本也越來越高；另外由于氧化銦錫需要采用真空磁控濺射的方式均勻鍍在PET膜上面，而PET膜不耐高溫，因此這種原材料制作難度較大，量產水平的氧化銦錫方阻最小只有100Ω/□。無法滿足大尺寸產品對方阻的需求。

另外，電容式觸控面板透明導電線路和邊框導電線路是分兩次制作完成的，一般先制作視窗區域的透明導電線路，然后再制作邊框導電線路，工藝相對復雜。

最后，電容式觸控面板的主流做法有二種：一種是驅動電極和感應電極分開制作，制作完成后用光學膠貼合在一起；另一種是在透明基材的正反兩面分別制作驅動電極和感應電極。這兩種結構制作工藝都比較復雜。

發明內容

本發明所要解決的技術問題是提供一種厚度薄、性能好、制作工藝簡單的電容式觸控面板。

為解決上述問題，本發明所采取的技術方案是：

通過磁控濺鍍、蒸鍍、電鍍或涂布等方式在透明基材單面形成一均勻的導電層。該透明基材可以為玻璃、PET、PC、PMMA等光學性能優異的材料；該導電層為電阻值較低的金、銀、銅、鋁等金屬。然后在該導電層上涂布光阻、用掩膜版對光阻進行曝光，然后經過顯影、蝕刻、剝膜，即完成了傳感器所有電路圖案的布設。

根據人眼的生理構造，線條距離72um?時，線條間模糊；線條距離40um時，人眼不可分辨。所以本發明利用這種原理，采用的涂膠、曝光，然后顯影、蝕刻、剝膜這種黃光工藝，做出精細的電路圖案，最細線寬可以做到10um以下。人眼是無法識別這種線寬10um左右的網格；同時這種線路網格又有優異的導電性能，根據設計不同，其表面電阻一般小于1Ω/□，有些甚至可以達到0.1Ω/□，這遠遠低于氧化銦錫的方阻。因此可以將這種網格應用于可視區域，作為透明導電材料使用。尤其適合應用于大尺寸觸控面板。

該網格的形狀沒有特別的限定，可以是一條很細的線條彎曲形成各種電路圖案，也可以是三角形、四邊形、五邊形、六邊形…甚至圓形等等。

由于該導電材料可同時用于透明導電線路和邊框導電線路的布設，因此可視區透明導電線路和邊框導電線路是同時制作完成的。

由于本發明采用的光阻涂布、曝光，然后顯影、蝕刻、剝膜這種黃光工藝，可以加工出非常精細的電路圖案，因此可以把觸控面板驅動電極和感應電極集中在透明基材的同一面上，驅動電極的通道在與感應電極通道相交處斷開，通過細導線將該斷開通道導引到FPC熱壓Pin腳位置。

因此本發明所制作的觸控面板具有成本低、性能優異、工藝簡單等優點。

本發明一種電容式觸控面板的制造包括如下步驟。

步驟一：在透明基底一面布設一導電層。該透明基材可以選用光學級的玻璃、PET、PC、PMMA或其光學性能優異的材料。該導電材料可以是電阻值較低的金、銀、銅、鋁等金屬，考慮到后續蝕刻加工制程方便，以及蝕刻后產品抗氧化、抗鹽霧試驗要求，該導電材料還會添加鎳、鈦、鉬、鈀等金屬。該不透明導電層可以通過磁控濺鍍、蒸鍍、電鍍或涂布等方式布設。

步驟二：在步驟一所述導電層表面涂布光阻。該光阻可以是市售感光干膜，也可以是液態的光阻膠。可以是正性光阻，也可以是負性光阻。

步驟三：附加掩膜版曝光。掩膜版上繪有電路圖案，將掩膜版附在光阻表面，然后對著掩膜版曝光，掩膜版上的圖案就轉移到光阻上面，形成潛影。該掩膜版可以使鉻版、玻璃干版、菲林版等等，考慮到成本及使用效果，優選玻璃干版。

步驟四：顯影。用顯影劑將光阻潛影部分溶解，使該處導電層金屬裸露；剩余光阻仍然保留，用于保護下方的導電層金屬。

步驟五：蝕刻。用蝕刻劑將上步裸露出的導電金屬蝕刻掉，只留下光阻保護下的導電金屬，從而形成了需要的電路圖案。

步驟六：剝膜。用剝膜液將光阻從導電層表面剝離。

通過上述步驟，就得到了一種電容式觸控面板。

附圖說明

圖1：為透明基板布設導電層、涂布光阻后的剖面示意圖。

圖2：為該透明基板附加掩膜版、曝光的剖面示意圖。