[發(fā)明專利]記錄介質(zhì)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210418338.X | 申請日： | 2012-10-26 |
| 公開（公告）號： | CN103085521A | 公開（公告）日： | 2013-05-08 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 野口哲朗;加茂久男;仁藤康弘;田栗亮;小栗勲;蘇秀兒;八田直也;湯本真也 | 申請（專利權(quán)）人： | 佳能株式會(huì)社 |
| 主分類號： | B41M5/50 | 分類號： | B41M5/50 |
| 代理公司： | 北京魏啟學(xué)律師事務(wù)所 11398 | 代理人： | 魏啟學(xué) |
| 地址： | 日本東京都大*** | 國省代碼： | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 記錄 介質(zhì) | ||
1.一種記錄介質(zhì)，其依次包括：
支持體；
第一墨接收層；和
第二墨接收層,
其中所述第一墨接收層包含
選自氧化鋁、氧化鋁水合物和氣相法二氧化硅的至少一種，
聚乙烯醇，和
硼酸，
其中所述第一墨接收層中的硼酸的含量與所述第一墨接收層中的聚乙烯醇含量的質(zhì)量比為2.0質(zhì)量%以上且7.0質(zhì)量%以下，
其中所述第二墨接收層包含
氣相法二氧化硅，
聚乙烯醇，和
硼酸，和
其中所述第二墨接收層中的硼酸的含量與所述第二墨接收層中的聚乙烯醇含量的質(zhì)量比為10.0質(zhì)量%以上且30.0質(zhì)量%以下。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的記錄介質(zhì)，
其中所述第一墨接收層中的聚乙烯醇含量與所述氧化鋁、所述氧化鋁水合物和所述氣相法二氧化硅的總含量的質(zhì)量比為11.0質(zhì)量%以上且40.0質(zhì)量%以下。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的記錄介質(zhì)，
其中所述第二墨接收層中的聚乙烯醇含量與所述第二墨接收層中的所述氣相法二氧化硅含量的質(zhì)量比為12.0質(zhì)量%且20.0質(zhì)量%。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的記錄介質(zhì)，
其中所述第一墨接收層和所述第二墨接收層的總厚度為30.0μm以上且38.0μm以下。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的記錄介質(zhì)，
其中所述第二墨接收層的厚度為7.0μm以上且15.0μm以下。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的記錄介質(zhì)，
其中所述第一墨接收層中的聚乙烯醇含量與所述氧化鋁、所述氧化鋁水合物和所述氣相法二氧化硅的總含量的質(zhì)量比為12.0質(zhì)量%以上且30.0質(zhì)量%以下，和
其中所述第二墨接收層中的聚乙烯醇含量與所述第二墨接收層中的氣相法二氧化硅含量的質(zhì)量比為13.0質(zhì)量%以上且18.0質(zhì)量%以下。
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