[發明專利]多功能云紋干涉及制柵系統

有效

• 申請號: 201210413986.6
• 申請日: 2012-10-25
• 公開（公告）號: CN102914273A
• 公開（公告）日: 2013-02-06
• 發明（設計）人: 戴福隆;謝惠民;戴相錄;王懷喜
• 申請（專利權）人: 清華大學
• 主分類號: G01B11/16
• 分類號: G01B11/16
• 代理公司: 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201
• 代理人: 張大威

1.一種多功能云紋干涉及制柵系統，包括：激光器（1）、分光耦合器（2）、干涉光路系統（3）、圖像采集系統（4）、加載及六維調節裝置（5）和帶有觀察窗的高溫爐（36），其特征在于：所述的干涉光路系統（3）中含有制作2400line/mm的u場光柵和測量常溫條件下的u場位移的光路、制作2400line/mm的v場光柵和測量常溫條件下的v場位移的光路、制作1200line/mm的u場光柵和測量高溫條件下的u場位移的光路、制作1200line/mm的v場光柵和測量高溫條件下的v場位移的光路，其中，

所述制作2400line/mm的u場光柵和測量常溫條件下的u場位移的光路依次通過分光耦合器（2）中的開關控制器（6）、第一光纖耦合器（7）后，經第一光纖分光器（9）分光，分兩束分別進入干涉光路系統（3），一束依次經過u場第一反射鏡（11）、u場第一準直透鏡（13）、u場第一楔形反射鏡（15）后入射到常溫試件（28）表面，另一束依次經過u場第二反射鏡（12）、u場第二準直透鏡（14）、u場第二楔形反射鏡（16）后入射到常溫試件（28）表面；

所述制作2400line/mm的v場光柵和測量常溫條件下的v場位移的光路依次通過分光耦合器（2）中的開關控制器（6）、第二光纖耦合器（8）后，經第二光纖分光器（10）分光，分兩束分別進入干涉光路系統（3），一束依次經過v場第一反射鏡（19）、v場第一準直透鏡（21）、v場第一楔形反射鏡（23）后入射到常溫試件（28）表面，另一束依次經過v場第二反射鏡（20）、v場第二準直透鏡（22）、v場第二楔形反射鏡（24）后入射到常溫試件（28）表面；

所述制作1200line/mm的u場光柵和測量高溫條件下的u場位移的光路依次通過分光耦合器（2）中的開關控制器（6）、第一光纖耦合器（7）后，經第一光纖分光器（9）分光，分兩束分別進入干涉光路系統（3），一束依次經過u場第一反射鏡（11）、u場第一準直透鏡（13）、u場高溫第一楔形反射鏡（30）后入射到高溫試件（35）表面，另一束依次經過u場第二反射鏡（12）、u場第二準直透鏡（14）、u場高溫第二楔形反射鏡（31）后入射到高溫試件（35）表面，其中測量高溫條件下的u場位移的光路要通過帶有觀察窗的高溫爐（36）；

所述制作1200line/mm的v場光柵和測量高溫條件下的v場位移的光路依次通過分光耦合器（2）中的開關控制器（6）、第二光纖耦合器（8）后，經第二光纖分光器（10）分光，分兩束分別進入干涉光路系統（3），一束依次經過v場第一反射鏡（19）、v場第一準直透鏡（21）、v場高溫第一楔形反射鏡（32）后入射到高溫試件（35）表面，另一束依次經過v場第二反射鏡（20）、v場第二準直透鏡（22）、v場高溫第二楔形反射鏡（33）后入射到高溫試件（35）表面，其中測量高溫條件下的v場位移的光路要通過帶有觀察窗的高溫爐（36）；

所述制作2400line/mm的u場光柵和測量常溫條件下的u場位移的光路、制作2400line/mm的v場光柵和測量常溫條件下的v場位移的光路在常溫試件（28）表面發生干涉形成干涉圖像，經常溫場鏡（27）被圖像采集系統（4）采集。制作1200line/mm的u場光柵和測量高溫條件下的u場位移的光路、制作1200line/mm的v場光柵和測量高溫條件下的v場位移的光路在高溫試件（35）表面發生干涉形成干涉圖像，經高溫場鏡（29）被圖像采集系統（4）采集。

2.如權利要求1所述的多功能云紋干涉及制柵系統，其特征在于：所述分光耦合器（2）中的開關控制器（6）、第一光纖耦合器（7）、第二光纖耦合器（8）被封裝在暗盒中。

3.如權利要求1所述的多功能云紋干涉及制柵系統，其特征在于：所述的干涉光路系統（3）中的u場第一反射鏡（11）、u場第二反射鏡（12）、u場第一準直透鏡（13）、u場第二準直透鏡（14）、u場第一楔形反射鏡（15）、u場第二楔形反射鏡（16）、u場第一調整座（17）、u場第二調整座（18）、u場高溫第一楔形反射鏡（30）、u場高溫第二楔形反射鏡（31）布置在yz平面內，v場第一反射鏡（19）、v場第二反射鏡（20）、v場第一準直透鏡（21）、v場第二準直透鏡（22）、v場第一楔形反射鏡（23）后、v場第二楔形反射鏡（24）、v場第一調整座（25）、v場第二調整座（26）、v場高溫第一楔形反射鏡（32）后、v場高溫第二楔形反射鏡（33）布置在xy平面內，常溫場鏡（27）、高溫場鏡（29）布置在xz平面內，上述部件被封裝在暗箱中。