[發明專利]一種Ga摻雜ZnO透明導電薄膜的制備方法有效
| 申請號: | 201210412425.4 | 申請日: | 2012-10-25 |
| 公開(公告)號: | CN102912307A | 公開(公告)日: | 2013-02-06 |
| 發明(設計)人: | 劉敏霞;吳木營 | 申請(專利權)人: | 東莞理工學院 |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35;C23C14/06 |
| 代理公司: | 東莞市華南專利商標事務所有限公司 44215 | 代理人: | 李玉平 |
| 地址: | 523808 廣東省*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 ga 摻雜 zno 透明 導電 薄膜 制備 方法 | ||
1.一種Ga摻雜ZnO透明導電薄膜的制備方法,其特征在于:包括如下步驟:
(1)稱取ZnO粉末和Ga2O3粉末,其中Ga占總粉末的摩爾百分含量為1~3%,將稱取的粉末經預燒結處理,將預燒結后的粉末再經燒結處理,制得Ga摻雜ZnO靶材;
(2)將襯底和步驟(1)制得的靶材裝入磁控濺射鍍膜機中,靶材和襯底的距離為6~10cm,將濺射室抽真空至1.0×10-4Pa~1.0×10-3Pa,通入氬氣,氣體流量為20~25sccm,控制工作壓強為0.1~0.5Pa;
(3)將步驟(2)中襯底的溫度升至300~600℃,控制濺射功率為80~120W,濺射時間為1~3h,進行鍍膜處理,制得Ga摻雜ZnO透明導電薄膜。
2.根據權利要求1所述的一種Ga摻雜ZnO透明導電薄膜的制備方法,其特征在于:所述步驟(1)中,Ga占總粉末的摩爾百分含量為2%。
3.根據權利要求1所述的一種Ga摻雜ZnO透明導電薄膜的制備方法,其特征在于:所述步驟(1)中,預燒結的具體步驟為:將稱取的粉末加入相當于ZnO質量0.8~1.2倍的無水乙醇球磨1~2h,使其混合均勻,隨后烘干5~7h,將干燥好的粉末在500~900℃溫度下保溫4~6h進行預燒結處理。
4.根據權利要求1所述的一種Ga摻雜ZnO透明導電薄膜的制備方法,其特征在于:所述步驟(1)中,燒結的具體步驟為:將預燒結后的粉末加入相當于ZnO質量8%~12%的聚乙烯醇研磨1~3h,使其混合均勻,隨后在15~25MPa壓力下壓制成型,將壓制成型的生坯在1200~1400℃溫度下保溫3~5h進行燒結處理。
5.根據權利要求1所述的一種Ga摻雜ZnO透明導電薄膜的制備方法,其特征在于:所述步驟(1)和步驟(2)中,ZnO粉末的純度為99%以上,Ga2O3粉末和氬氣的純度均為99.99%以上。
6.根據權利要求1所述的一種Ga摻雜ZnO透明導電薄膜的制備方法,其特征在于:所述步驟(2)中,襯底為藍寶石、玻璃和石英中的任意一種。
7.根據權利要求1所述的一種Ga摻雜ZnO透明導電薄膜的制備方法,其特征在于:所述步驟(2)中,靶材和襯底的距離為8cm,濺射室的真空氣壓為5×10-4Pa。
8.根據權利要求1所述的一種Ga摻雜ZnO透明導電薄膜的制備方法,其特征在于:所述步驟(2)中,氣體流量為22sccm,工作壓強為0.3Pa。
9.根據權利要求1所述的一種Ga摻雜ZnO透明導電薄膜的制備方法,其特征在于:所述步驟(3)中,襯底的溫度為450℃,濺射功率為100W,濺射時間為2h。
10.根據權利要求1~9任一項所述制備方法制得的一種Ga摻雜ZnO透明導電薄膜,其特征在于:所述薄膜的電阻率≤6×10-4Ω·cm,可見光光譜范圍平均透過率≥90%。
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