[發明專利]激光投影顯示系統和方法無效
| 申請號: | 201210411792.2 | 申請日: | 2012-10-24 |
| 公開(公告)號: | CN103777365A | 公開(公告)日: | 2014-05-07 |
| 發明(設計)人: | 房濤;畢勇;孫敏遠;王斌;王延偉 | 申請(專利權)人: | 中國科學院光電研究院 |
| 主分類號: | G02B27/48 | 分類號: | G02B27/48;G03B21/20;G03B21/14;G02B27/09 |
| 代理公司: | 北京三高永信知識產權代理有限責任公司 11138 | 代理人: | 鞠永善 |
| 地址: | 100094*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 激光 投影 顯示 系統 方法 | ||
1.一種激光投影顯示系統,其特征在于,所述系統包括:激光光源、光調制元件、第一定向散射元件、光閥、投影鏡頭和顯示屏幕,所述光調制元件、所述第一定向散射元件、所述光閥、所述投影鏡頭和所述顯示屏幕依次設置在所述激光光源的光路上;
所述激光光源,用于產生激光組束;
所述光調制元件,用于將所述激光組束分成多個獨立的子光束;
所述第一定向散射元件,用于對所述多個獨立的子光束進行散射;
所述光閥,用于對散射后的子光束進行調制,得到包含圖像信息的子光束;
所述投影鏡頭,用于將包含圖像信息的子光束投射至所述顯示屏幕;
所述顯示屏幕,用于顯示所述圖像信息。
2.根據權利要求1所述的系統,其特征在于,所述系統還包括:
勻場裝置,用于對所述第一定向散射元件的輸出光束進行整形,所述勻場裝置設置在所述激光光源的光路上,位于所述第一定向散射元件和所述光閥之間。
3.根據權利要求2所述的系統,其特征在于,所述系統還包括:
第二定向散射元件,用于對經過所述勻場裝置整形后的光束進行散射;所述第二定向散射元件設置在所述激光光源的光路上,位于所述勻場裝置和所述光閥之間。
4.根據權利要求1-3任一項所述的系統,其特征在于,所述系統還包括:
光纖陣列,用于傳輸所述激光組束,所述光纖陣列設置在所述激光光源的光路上,位于所述激光光源和所述光調制元件之間。
5.根據權利要求4所述的系統,其特征在于,所述系統還包括:
耦合器,用于控制所述光纖陣列輸出的激光組束的出射角度,使得成像均勻。
6.根據權利要求1所述的系統,其特征在于,所述系統還包括:
電機,用于驅動所述光調制元件運動。
7.一種基于權利要求1的系統的激光投影顯示方法,其特征在于,包括:
所述激光光源產生激光組束,并將所述激光組束入射至所述光調制元件;
所述光調制元件對所述激光組束進行分光處理,得到多個獨立的子光束,將所述多個獨立的子光束入射至所述第一定向散射元件;
所述第一定向散射元件對所述多個獨立的子光束進行散射處理,得到散射后的子光束,將所述散射后的子光束入射至所述光閥;
所述光閥對所述散射后的子光束進行調制,得到包含圖像信息的子光束,并將所述包含圖像信息的子光束入射至所述投影鏡頭;
所述投影鏡頭將所述包含圖像信息的子光束投射至所述顯示屏幕;
所述顯示屏幕顯示所述圖像信息。
8.根據權利要求7所述的方法,其特征在于,所述第一定向散射元件對所述多個獨立的子光束進行散射處理,得到散射后的子光束,將所述散射后的子光束入射至所述光閥,包括:
所述第一定向散射元件對所述多個獨立的子光束進行散射處理,得到散射后的子光束,將所述散射后的子光束入射至勻場裝置,通過所述勻場裝置的整形,入射至所述光閥。
9.根據權利要求8所述的方法,其特征在于,所述第一定向散射元件對所述多個獨立的子光束進行散射處理,得到散射后的子光束,將所述散射后的子光束入射至所述光閥,包括:
所述第一定向散射元件對所述多個獨立的子光束進行散射處理,得到散射后的子光束,將所述散射后的子光束入射至所述勻場裝置,通過所述勻場裝置的整形,將整形后的光束入射至第二定向散射元件,所述第二定向散射元件對所述整形后的光束進行散射,并入射至所述光閥。
10.根據權利要求7-9任一項所述的方法,其特征在于,所述激光光源產生激光組束,并將所述激光組束入射至所述光調制元件,包括:
所述激光光源產生激光組束,并將所述激光組束入射至光纖陣列;所述激光組束經過所述光纖陣列的傳輸,入射至所述光調制元件。
11.根據權利要求10所述的方法,其特征在于,所述激光光源產生激光組束,并將所述激光組束入射至所述光纖陣列;所述激光組束經過所述光纖陣列的傳輸,入射至所述光調制元件,包括:
所述激光光源產生激光組束,并將所述激光組束入射至所述光纖陣列;所述激光組束經過所述光纖陣列的傳輸,入射至耦合器,通過所述耦合器對所述光纖陣列輸出的光的出射角度的控制,入射至所述光調制元件。
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