[發明專利]一種常溫化學錫鍍液無效
| 申請號： | 201210411409.3 | 申請日： | 2012-10-25 |
| 公開（公告）號： | CN102925878A | 公開（公告）日： | 2013-02-13 |
| 發明（設計）人： | 陳大弟 | 申請（專利權）人： | 南京大地冷凍食品有限公司 |
| 主分類號： | C23C18/52 | 分類號： | C23C18/52;C25D3/30;C25D3/32 |
| 代理公司： | 南京蘇高專利商標事務所(普通合伙) 32204 | 代理人： | 柏尚春 |
| 地址： | 211218 江蘇省*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 常溫 化學 錫鍍液 | ||
【權利要求書】：
1.一種常溫化學錫鍍液，其特征在于包括以下質量百分比的組分：
氯化亞錫????????????5～10g/L；
氫氧化鈉????????????15～30g/L；
四羥丙基乙二胺??????10～15g/L；
HEDP???????????????5～10g/L；
檸檬酸鈉????????????5～10g/L；
2,2-聯吡啶???????????5～15ppm；
吐溫80??????????????0.5～2g/L；
聚乙二醇3000????????1～2g/L，以及余量的純水。
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- 專利分類
C23 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C18-00 通過液態化合物分解抑或覆層形成化合物溶液分解、且覆層中不留存表面材料反應產物的化學鍍覆
C23C18-02 .熱分解法
C23C18-14 .輻射分解法，例如光分解、粒子輻射
C23C18-16 .還原法或置換法，例如無電流鍍
C23C18-54 .接觸鍍，即無電流化學鍍
C23C18-18 ..待鍍材料的預處理
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
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