[發明專利]含鹵化物顆粒氣體的除害方法無效
| 申請號： | 201210410369.0 | 申請日： | 2012-10-24 |
| 公開（公告）號： | CN103055692A | 公開（公告）日： | 2013-04-24 |
| 發明（設計）人： | 宮澤和浩;澀谷和信;坂根誠;富田哲也 | 申請（專利權）人： | 大陽日酸株式會社 |
| 主分類號： | B01D53/82 | 分類號： | B01D53/82;B01D53/68 |
| 代理公司： | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 劉新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 鹵化物 顆粒 氣體 除害 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種含鹵化物顆粒氣體的除害方法，所述除害方法的除害對象氣體包含鹵化物氣體和鹵化物顆粒，其中，使所述除害對象氣體與含金屬氫氧化物的第1除害劑接觸后，再與能夠除害鹵化物的第2除害劑接觸。
2.根據權利要求1所述的含鹵化物顆粒氣體的除害方法，其中，所述第1除害劑中的所述金屬氫氧化物為堿金屬的氫氧化物或者堿土金屬的氫氧化物。
3.根據權利要求1所述的含鹵化物顆粒氣體的除害方法，其中，所述第2除害劑的尺寸小于所述第1除害劑的尺寸。
4.根據權利要求2所述的含鹵化物顆粒氣體的除害方法，其中，所述第2除害劑的尺寸小于所述第1除害劑的尺寸。
5.根據權利要求1所述的含鹵化物顆粒氣體的除害方法，其中，所述鹵化物顆粒在常溫下為固體。
6.根據權利要求2所述的含鹵化物顆粒氣體的除害方法，其中，所述鹵化物顆粒在常溫下為固體。
7.根據權利要求3所述的含鹵化物顆粒氣體的除害方法，其中，所述鹵化物顆粒在常溫下為固體。
8.根據權利要求4所述的含鹵化物顆粒氣體的除害方法，其中，所述鹵化物顆粒在常溫下為固體。
9.根據權利要求1~8的任一項所述的含鹵化物顆粒氣體的除害方法，其中，所述鹵化物顆粒含有第13族或第15族原子。
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